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专利号: 2020103250860
申请人: 湖北科技学院
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2026-05-14
缴费截止日期: 暂无
联系人

摘要:

权利要求书:

1.一种斐波那契序列电介质与石墨烯的复合结构,其特征在于,本复合结构包括若干电介质层一、若干电介质层二和一个石墨烯层,所述复合结构是由电介质层一、电介质层二和石墨烯层三者堆叠而成的多层结构,所述复合结构由其一侧面至另一侧面的堆叠规律如下:电介质层二、电介质层一、电介质层二、电介质层二、电介质层一、电介质层二、电介质层一、电介质层二、电介质层二、电介质层一、电介质层二、电介质层二、电介质层一、石墨烯层、电介质层一、电介质层二、电介质层二、电介质层一、电介质层二、电介质层二、电介质层一、电介质层二、电介质层一、电介质层二、电介质层二、电介质层一、电介质层二;所述电介质层一的材料为MgF2晶体,所述电介质层二的材料为ZnS晶体;

所述电介质层一的折射率为na=1.38,所述电介质层二的折射率为nb=2.35;

所述电介质层一的厚度为的da=λ0/4na=27.17μm,所述电介质层二的厚度为的db=λ0/

4nb=15.96μm,其中,λ0=150μm。

2.根据权利要求1所述一种斐波那契序列电介质与石墨烯的复合结构,其特征在于,斐波那契序列电介质与石墨烯的复合结构应用于对入射光波长敏感的传感元件。

3.根据权利要求1所述一种斐波那契序列电介质与石墨烯的复合结构,其特征在于,斐波那契序列电介质与石墨烯的复合结构应用于对入射光角度敏感的传感元件。