1.一种柔性AMOLED模组弯折轨迹优化方法，其特征在于，包括：建立AMOLED模组；

初始化屏体弯折轨迹约束参数，并基于初始化的屏体弯折轨迹约束参数建立支撑体模型；

对所述AMOLED模组和所述支撑体模型进行绑定约束；

在预设参数区间内多次调整所述支撑体模型对应的屏体弯折轨迹约束参数；

采用各次调整后的屏体弯折轨迹约束参数对应的支撑体模型带动所述AMOLED模组进行弯折运动，并计算所述AMOLED模组在各组屏体弯折轨迹约束参数对应的弯折运动下的应力曲线；

获取各个应力曲线的应力最大值，选取应力最大值最小的应力曲线作为最优应力曲线，并将所述最优应力曲线对应的AMOLED模组的弯折轨迹作为最优弯折轨迹。

2.如权利要求1所述的一种柔性AMOLED模组弯折轨迹优化方法，其特征在于，所述AMOLED模组包括：

保护盖板层、偏光片层、柔性基板层、光学透明胶层、显示层以及支撑膜层。

3.如权利要求1所述的一种柔性AMOLED模组弯折轨迹优化方法，其特征在于，所述屏体弯折轨迹约束参数包括：支撑体圆弧位置弧度和非弯折区长度；所述基于初始化的屏体弯折轨迹约束参数建立支撑体模型，包括：建立具有第一支撑面的刚体模型作为所述支撑体模型；

所述第一支撑面包括平滑连接的第一倒角圆弧面和第一平面，所述第一倒角圆弧面的第一边为所述第一支撑面的第一边，所述第一倒角圆弧面的第二边与所述第一平面的第一边平滑连接，所述第一平面的第二边为所述第一支撑面的第二边；

所述第一倒角圆弧面的弧度等于初始的支撑体圆弧位置弧度；

所述第一平面的第一边与第二边之间的距离等于初始的非弯折区长度。

4.如权利要求3所述的一种柔性AMOLED模组弯折轨迹优化方法，其特征在于，所述AMOLED模组为矩形屏体，且所述矩形屏体的一组对边包括动边和定边，所述对所述AMOLED模组和所述支撑体模型进行绑定约束，包括：将所述AMOLED模组的动边与所述支撑体模型的第一支撑面的第一边进行绑定约束。

5.如权利要求4所述的一种柔性AMOLED模组弯折轨迹优化方法，其特征在于，所述采用各次调整后的屏体弯折轨迹约束参数对应的支撑体模型带动所述AMOLED模组进行弯折运动，包括：

将所述AMOLED模组做弯折运动前所在的平面为第一参考平面，将与所述第一参考平面垂直且包含所述AMOLED模组的定边的平面作为第二参考平面；

保持所述AMOLED模组的定边位置不变，采用各次调整后的屏体弯折轨迹约束参数对应的支撑体模型带动所述AMOLED模组的动边移动，以使所述AMOLED模组做弯折运动，直至所述AMOLED模组的动边位于所述第二参考平面，弯折运动完成。

6.如权利要求5所述的一种柔性AMOLED模组弯折轨迹优化方法，其特征在于，所述屏体弯折轨迹约束参数还包括水滴型半径；

所述水滴型半径为所述AMOLED模组弯折完成后，第一参考点与所述第二参考平面之间的垂直距离，所述第一参考点为所述AMOLED模组上距离所述第二参考平面最远的点。

7.一种柔性AMOLED模组弯折轨迹优化装置，其特征在于，包括：AMOLED模组建立模块，用于建立AMOLED模组；

支撑体模型建立模块，用于初始化屏体弯折轨迹约束参数，并基于初始化的屏体弯折轨迹约束参数建立支撑体模型；

绑定约束模块，用于对所述AMOLED模组和所述支撑体模型进行绑定约束；

参数调整模块，用于在预设参数区间内多次调整所述支撑体模型对应的屏体弯折轨迹约束参数；

应力曲线获取模块，用于采用各次调整后的屏体弯折轨迹约束参数对应的支撑体模型带动所述AMOLED模组进行弯折运动，并计算所述AMOLED模组在各组屏体弯折轨迹约束参数对应的弯折运动下的应力曲线；

最优弯折轨迹确定模块，用于获取各个应力曲线的应力最大值，选取应力最大值最小的应力曲线作为最优应力曲线，并将所述最优应力曲线对应的AMOLED模组的弯折轨迹作为最优弯折轨迹。

8.如权利要求7所述的一种柔性AMOLED模组弯折轨迹优化装置，其特征在于，所述AMOLED模组包括：

保护盖板层、偏光片层、柔性基板层、光学透明胶层、显示层以及支撑膜层。

9.一种终端设备，包括存储器、处理器以及存储在所述存储器中并可在所述处理器上运行的计算机程序，其特征在于，所述处理器执行所述计算机程序时实现如权利要求1至6任一项所述方法的步骤。

10.一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质存储有计算机程序，其特征在于，所述计算机程序被处理器执行时实现如权利要求1至6任一项所述方法的步骤。