1.一种边框，包括：

第一边框部和第二边框部，所述第一边框部和第二边框部一体成型；

容置腔，形成与所述第一边框部和第二边框部之间，允许工件插入；

其特征在于，

所述第一边框部包括允许粘结剂进入的第一流道，所述第一流道与所述容置腔连通；

所述第二边框部包括允许粘结剂和空气流出的第二流道，所述第二流道与所述容置腔连通。

2.根据权利要求1所述的一种边框，其特征在于，还包括：第一保护部和第二保护部，填充在容置腔内且设于工件两侧，用于将粘结剂均匀的涂覆在工件上。

3.根据权利要求1所述的一种边框，其特征在于，还包括：进口，设于第一边框部上与第一流道连通，用于与注入设备连接，所述注入设备向所述容置腔中注入粘结剂；

所述进口突出第一边框部表面设置。

4.根据权利要求3所述的一种边框，其特征在于，还包括：出口，设于第二边框部上与第二流道连通，用于与存储设备连接；

所述出口突出第二边框部表面设置。

5.根据权利要求1所述的一种边框，其特征在于，所述第一边框部和第二边框部竖直设置。

6.根据权利要求4所述的一种边框，其特征在于，所述出口高于所述进口。

7.根据权利要求1所述的一种边框，其特征在于，还包括密封槽，围设于所述第一边框部和/或第二边框部的相对内表面，所述密封槽与所述容置腔连通，所述密封槽围绕所述工件的外缘设置。

8.根据权利要求1所述的一种边框，其特征在于，所述工件为膜电极。

9.一种膜电极组件，包括：膜电极；

其特征在于，还包括：

膜电极边框，包括：

第一边框部和第二边框部，所述第一边框部和第二边框部一体成型；

容置腔，允许所述膜电极竖向插入；

第一流道，连通容置腔与注入设备,用于将注入设备中的粘结剂注入到容置腔内；

第二流道，连通容置腔与存储设备，用于排出粘结剂和空气，所述第二流道与所述容置腔连通。

10.根据权利要求9所述的一种膜电极组件，其特征在于，还包括：第一保护部和第二保护部，填充在容置腔内且设于膜电极两侧，用于将粘结剂均匀的涂覆在膜电极上。

11.根据权利要求9所述的一种膜电极组件，其特征在于，还包括：进口，设于第一边框部上与第一流道连通，用于与注入设备连接，所述注入设备向所述容置腔中注入粘结剂；所述进口突出第一边框部表面设置；

出口，设于第二边框部上与第二流道连通，用于与回收设备连接；所述出口突出第二边框部表面设置；

所述出口高于所述进口。

12.根据权利要求9所述的一种膜电极组件，其特征在于，还包括密封槽，还包括密封槽，围设于所述第一边框部和/或第二边框部的相对内表面，所述密封槽与所述容置腔连通，所述密封槽围绕所述膜电极的外缘设置。

13.一种膜电极组件制备设备，包括：存储设备，

膜电极边框，

连接管，连接存储设备和膜电极边框；

其特征在于，还包括：

动力装置，与连接管连接，用于将存储设备中的粘结剂抽到膜电极边框内。

14.根据权利要求13所述的一种膜电极组件制备设备，其特征在于，所述膜电极边框，包括：

容置腔，允许所述膜电极竖向插入；

第一流道，连通容置腔与注入设备,用于将注入设备中的粘结剂注入到容置腔内；

第二流道，连通容置腔与存储设备，用于排出粘结剂和空气；

第一保护部和第二保护部，填充在容置腔内且设于工件两侧，用于将粘结剂均匀的涂覆在膜电极上。

15.根据权利要求13所述的一种膜电极组件制备设备，其特征在于，还包括：进口，设于第一边框部上与第一流道连通，用于与注入设备连接，所述注入设备向所述容置腔中注入粘结剂；所述进口突出第一边框部表面设置；

出口，设于第二边框部上与第二流道连通，用于与回收设备连接；所述出口突出第二边框部表面设置；

所述出口高于所述进口。

16.根据权利要求15所述的一种膜电极组件制备设备，其特征在于，连接管包括：第一连接管，与进口连接；

和第二连接管，与出口连接；

所述连接管为柔性管。

17.根据权利要求16所述的一种膜电极组件制备设备，其特征在于，第二连接管包括相邻设置的连接部和缓冲部，所述连接部与出口连接，所述缓冲部中的内径大于所述连接部的内径。

18.根据权利要求17所述的一种膜电极组件制备设备，其特征在于，所述缓冲部的内径与所述连接的内径比是2:1。

19.根据权利要求17所述的一种膜电极组件制备设备，其特征在于，所述第一连接管进入所述存储装置中的深度小于所述第二连接管进入所述存储装置中的深度。

20.根据权利要求19所述的一种膜电极组件制备设备，其特征在于，所述第二连接管的进入深度小于等于所述存储设备高度的1/3；

所述第一连接管的进入深度大于等于所述存储设备的2/3。

21.根据权利要求13所述的一种膜电极组件制备设备，其特征在于，所述动力装置为泵体。