1.一种供料装置，其特征在于：包括底板以及均装设在底板上的料斗和升降驱动件，所述升降驱动件的输出端连接有旋转驱动件，所述旋转驱动件的输出端连接有料盘，所述料盘位于所述料斗的上方，所述料盘的上下两侧分别装设有第一吸附治具板和第二吸附治具板；所述料斗的底部设置有吹气嘴。

2.根据权利要求1所述一种供料装置，其特征在于：所述底板上设置有支架，所述料斗装设在支架上，所述料斗顶部设置有开口，所述开口的外缘设置有密封圈。

3.根据权利要求1所述一种供料装置，其特征在于：所述料盘的内部上、下两侧分别设置有第一真空型腔和第二真空型腔，所述第一吸附治具板和所述第二吸附治具板均贯穿设置有多个吸附孔，所述第一吸附治具板的吸附孔与所述第一真空型腔连通，所述第二吸附治具板的吸附孔与所述第二真空型腔连通；所述料盘的一侧设置有第一真空气嘴和第二真空气嘴，第一真空气嘴和第二真空气嘴分别与所述第一真空型腔和第二真空型腔连通，所述第一真空气嘴和第二真空气嘴均用于与外界真空产生器连接。

4.根据权利要求1所述一种供料装置，其特征在于：所述升降驱动件一侧的顶部设置有上缓冲器，所述底板上设置有下缓冲器，所述旋转驱动件的一侧设置有限位块，所述限位块位于所述上缓冲器和所述下缓冲器之间。

5.根据权利要求1所述一种供料装置，其特征在于：所述升降驱动件为混合气缸。

6.根据权利要求1所述一种供料装置，其特征在于：所述旋转驱动件为旋转气缸。