1.一种海洋装备水下清洗装置，其特征在于：包括内置模块、清洗机械手、水射流清洗刷机构、夹持机械手、磁吸附行走机构、清洗盘组件，内置模块包括结构框架、辅助控制系统，结构框架设有上层安装板、中层安装板、底层安装板，构成三层框架结构，清洗机械手与上层安装板的上表面连接，水射流清洗刷机构安装于清洗机械手的端部，夹持机械手设有四个，两两间隔相对分成两组，分别设置于结构框架的相对两侧并与中层安装板连接，磁吸附行走机构设有四个，在结构框架的下部呈矩阵型间隔分布并分别与底层安装板连接，清洗盘组件安装于底层安装板的底面上并位于四个磁吸附行走机构之间，辅助控制系统安装于结构框架上，清洗机械手、水射流清洗刷机构、夹持机械手、磁吸附行走机构、清洗盘组件分别与辅助控制系统信号连接；

水射流清洗刷机构包括集成安装板、立式轴承、套筒、滚珠丝杆组件、清洗刷、步进电机、射流枪、滚珠丝杠机构，集成安装板上平行间隔安装有两个立式轴承，套筒依次穿设于两个立式轴承中并与两者连接，清洗刷通过滚珠丝杆组件在套筒的一端周向设置并与其连接，射流枪从套筒的另一端穿入，步进电机安装于集成安装板上并与套筒连接，滚珠丝杠机构在套筒尾端的一侧安装于集成安装板上，射流枪与滚珠丝杠机构连接，集成安装板与清洗机械手连接，滚珠丝杆组件、步进电机、射流枪、滚珠丝杠机构分别与辅助控制系统信号连接。

2.根据权利要求1所述的一种海洋装备水下清洗装置，其特征在于：清洗机械手包括旋转底座以及依次连接的大臂、中臂、小臂、腕部、手部，大臂与旋转底座固定，旋转底座与上层安装板的上表面连接，大臂与中臂通过转轴一相连，在转轴一处布置伺服舵机一，中臂与小臂通过转轴二相连，在转轴二处设有伺服电机，小臂与腕部的关节的连接处设有伺服舵机二，腕部与手部的连接处设有伺服舵机三，手部的内部设有自转电机，水射流清洗刷机构与手部连接，伺服舵机一、伺服电机、伺服舵机二、伺服舵机三、自转电机分别与辅助控制系统信号连接。

3.根据权利要求1所述的一种海洋装备水下清洗装置，其特征在于：清洗刷绕一点呈周向分布设有四个，分别通过一个滚珠丝杆组件与套筒连接，滚珠丝杆组件的滚珠丝杆本体通过丝杆底座与套筒的外周面固定，清洗刷与滚珠丝杆本体的丝杆滑块连接。

4.根据权利要求1所述的一种海洋装备水下清洗装置，其特征在于：夹持机械手包括第一指节、第二指节、第三指节、夹持底座、直线模组，第一指节一端、第三指节一端分别与第二指节两端连接，两个连接处分别设有一个传动电机，第三指节的另一端通过夹持底座与直线模组连接，直线模组与中层安装板连接。

5.根据权利要求1所述的一种海洋装备水下清洗装置，其特征在于：磁吸附行走机构包括磁履带轮组件、传动轴一、传动轴二、电动推杆、驱动电机，磁履带轮组件设置于底层安装板的底部，驱动电机安装于底层安装板上，传动轴一的一端与驱动电机连接，另一端与磁履带轮组件连接，传动轴二的一端与磁履带轮组件相连，另一端与中层安装板连接，电动推杆安装于结构框架上并与传动轴二连接，电动推杆、驱动电机分别与辅助控制系统信号连接。

6.根据权利要求5所述的一种海洋装备水下清洗装置，其特征在于：磁履带轮组件包括固定支架、磁履带、履带轮，履带轮在固定支架竖直平面上的周向间隔分布有多个并分别与固定支架连接，磁履带在多个履带轮的外围与其啮合连接，传动轴一与其中一个履带轮连接，传动轴二与固定支架连接。

7.根据权利要求1所述的一种海洋装备水下清洗装置，其特征在于：清洗盘组件包括副清洗盘、主清洗盘，主清洗盘在结构框架底部的中间位置并与其连接，副清洗盘在主清洗盘水平方向的相对两侧分别间隔设有两个，每个副清洗盘分别与结构框架连接。

8.根据权利要求7所述的一种海洋装备水下清洗装置，其特征在于：主清洗盘包括罩壳、异向喷管、中心旋转体，罩壳的外端面圆周方向均匀间隔安装有多个槽口，在罩壳的中部安装有中心旋转体，中心旋转体穿过罩壳中心孔并与其连接，中心旋转体上安装有异向喷管。

9.根据权利要求1所述的一种海洋装备水下清洗装置，其特征在于：辅助控制系统包括电力舱、电子舱以及分别与电力舱和/或电子舱信号连接的三维扫描仪、探照灯一、摄像头一、探照灯二、摄像头二、垂直推进器、超声波传感器、水平推进器、浮力调节装置，上层安装板侧下方靠近其四个顶角处分别安装有一个水平推进器，上层安装板横向相对两侧分别安装有一个探照灯二和一个摄像头二，结构框架的艏尾两端分别安装有一个垂直推进器，每个垂直推进器7的一侧设有三维扫描仪，三维扫描仪与结构框架连接，中层安装板上设有浮力调节装置，在中层安装板的前后端分别安装电子舱与电力舱，超声波传感器设有四个，分别靠近对应的一个夹持机械手并与中层安装板连接，底层安装板的前后端分别设有一个探照灯一和摄像头一，清洗机械手、水射流清洗刷机构、夹持机械手、磁吸附行走机构、清洗盘组件分别与电力舱以及电子舱信号连接。