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专利号: 2020113996177
申请人: 泉芯集成电路制造(济南)有限公司
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2025-03-19
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种掩模版图案修正方法,其特征在于,所述方法包括:

降序地对待修正掩模版图案中各掩模图案进行对称性能排序,得到图案排序结果;

依次针对所述图案排序结果中每个图案次序,确定所述待修正掩模版图案在该图案次序处对应的校验掩模版图案以及漂移校准图案,其中所述漂移校准图案包括所述待修正掩模版图案中与该图案次序对应的掩模图案以及位于该图案次序之前的所有图案次序所对应的掩模图案;针对所述图案排序结果的第一个图案次序,该图案次序处的校验掩模版图案即为所述待修正掩模版图案;针对所述图案排序结果的除第一个图案次序以外的剩余的每个图案次序,该图案次序处的校验掩模版图案即为前一图案次序处通过构建OPC模型输出的的掩模版图案;

获取所述校验掩模版图案的真实曝光图形轮廓及仿真曝光图形轮廓;

根据所述漂移校准图案在所述真实曝光图形轮廓及所述仿真曝光图形轮廓中各自的轮廓分布状况,对所述真实曝光图形轮廓进行漂移补偿;

采用补偿后的真实曝光图形轮廓进行OPC模型构建,并将构建的OPC模型所输出的掩模版图案作为所述待修正掩模版图案在下一图案次序处的校验掩模版图案;

将与最后一个图案次序对应的OPC模型所输出的掩模版图案,作为所述待修正掩模版图案在修正后的目标掩模版图案。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述漂移校准图案在所述真实曝光图形轮廓及所述仿真曝光图形轮廓中各自的轮廓分布状况,对所述真实曝光图形轮廓进行漂移补偿的步骤,包括:从所述真实曝光图形轮廓中提取与所述漂移校准图案对应的第一图形轮廓,并从所述仿真曝光图形轮廓中提取与所述漂移校准图案对应的第二图形轮廓;

计算所述第一图形轮廓与所述第二图形轮廓之间的轮廓漂移量;

采用所述轮廓漂移量对所述真实曝光图形轮廓进行漂移补偿。

3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述计算所述第一图形轮廓与所述第二图形轮廓之间的轮廓漂移量的步骤,包括:针对所述漂移校准图案中的每个掩模图案,确定该掩模图案在所述第一图形轮廓与所述第二图形轮廓中各自对应的图形轮廓尺寸及图形轮廓位置,并根据得到的图形轮廓尺寸及图形轮廓位置计算该掩模图案的轮廓漂移量;

对所述漂移校准图案中的所有掩模图案各自的轮廓漂移量进行均值运算,得到所述第一图形轮廓与所述第二图形轮廓之间的轮廓漂移量。

4.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,所述计算所述第一图形轮廓与所述第二图形轮廓之间的轮廓漂移量的步骤,包括:针对所述漂移校准图案中的每个掩模图案,确定该掩模图案在所述第一图形轮廓与所述第二图形轮廓中各自对应的图形轮廓尺寸及图形轮廓位置,并根据得到的图形轮廓尺寸及图形轮廓位置计算该掩模图案的轮廓漂移量;

根据所述漂移校准图案中各掩模图案的图案次序,确定所述漂移校准图案中的每个掩模图案的漂移权重,其中漂移权重越大则对应掩模图案的对称性能越好;

根据所述漂移校准图案中每个掩模图案的漂移权重,对所述漂移校准图案中每个掩模图案的轮廓漂移量进行加权求和,得到所述第一图形轮廓与所述第二图形轮廓之间的轮廓漂移量。

5.一种掩模版图案修正装置,其特征在于,所述装置包括:

图案排序模块,用于降序地对待修正掩模版图案中各掩模图案进行对称性能排序,得到图案排序结果;

图案校准模块,用于依次针对所述图案排序结果中每个图案次序,确定所述待修正掩模版图案在该图案次序处对应的校验掩模版图案以及漂移校准图案,其中所述漂移校准图案包括所述待修正掩模版图案中与该图案次序对应的掩模图案以及位于该图案次序之前的所有图案次序所对应的掩模图案;针对所述图案排序结果的第一个图案次序,该图案次序处的校验掩模版图案即为所述待修正掩模版图案;针对所述图案排序结果的除第一个图案次序以外的剩余的每个图案次序,该图案次序处的校验掩模版图案即为前一图案次序处通过构建OPC模型输出的的掩模版图案;

轮廓获取模块,用于获取所述校验掩模版图案的真实曝光图形轮廓及仿真曝光图形轮廓;

轮廓补偿模块,用于根据所述漂移校准图案在所述真实曝光图形轮廓及所述仿真曝光图形轮廓中各自的轮廓分布状况,对所述真实曝光图形轮廓进行漂移补偿;

模型构建模块,用于采用补偿后的真实曝光图形轮廓进行OPC模型构建,并将构建的OPC模型所输出的掩模版图案作为所述待修正掩模版图案在下一图案次序处的校验掩模版图案;

修正输出模块,用于将与最后一个图案次序对应的OPC模型所输出的掩模版图案,作为所述待修正掩模版图案在修正后的目标掩模版图案。

6.根据权利要求5所述的装置,其特征在于,所述轮廓补偿模块包括:

轮廓提取子模块,用于从所述真实曝光图形轮廓中提取与所述漂移校准图案对应的第一图形轮廓,并从所述仿真曝光图形轮廓中提取与所述漂移校准图案对应的第二图形轮廓;

漂移计算子模块,用于计算所述第一图形轮廓与所述第二图形轮廓之间的轮廓漂移量;

漂移补偿子模块,用于采用所述轮廓漂移量对所述真实曝光图形轮廓进行漂移补偿。

7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述漂移计算子模块计算所述第一图形轮廓与所述第二图形轮廓之间的轮廓漂移量的方式,包括:针对所述漂移校准图案中的每个掩模图案,确定该掩模图案在所述第一图形轮廓与所述第二图形轮廓中各自对应的图形轮廓尺寸及图形轮廓位置,并根据得到的图形轮廓尺寸及图形轮廓位置计算该掩模图案的轮廓漂移量;

对所述漂移校准图案中的所有掩模图案各自的轮廓漂移量进行均值运算,得到所述第一图形轮廓与所述第二图形轮廓之间的轮廓漂移量。

8.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述漂移计算子模块计算所述第一图形轮廓与所述第二图形轮廓之间的轮廓漂移量的方式,包括:针对所述漂移校准图案中的每个掩模图案,确定该掩模图案在所述第一图形轮廓与所述第二图形轮廓中各自对应的图形轮廓尺寸及图形轮廓位置,并根据得到的图形轮廓尺寸及图形轮廓位置计算该掩模图案的轮廓漂移量;

根据所述漂移校准图案中各掩模图案的图案次序,确定所述漂移校准图案中的每个掩模图案的漂移权重,其中漂移权重越大则对应掩模图案的对称性能越好;

根据所述漂移校准图案中每个掩模图案的漂移权重,对所述漂移校准图案中每个掩模图案的轮廓漂移量进行加权求和,得到所述第一图形轮廓与所述第二图形轮廓之间的轮廓漂移量。

9.一种计算机设备,其特征在于,包括处理器和存储器,所述存储器存储有能够被所述处理器执行的机器可执行指令,所述处理器可执行所述机器可执行指令,实现权利要求1‑4中任意一项所述的掩模版图案修正方法。

10.一种可读存储介质,其上存储有计算机程序,其特征在于,所述计算机程序被处理器执行时,实现权利要求1‑4中任意一项所述的掩模版图案修正方法。