1.一种锆石基硼硅酸盐玻璃陶瓷制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

步骤一、将原料Na2CO3、SiO2、H3BO3和ZrO2混合后进行研磨；

步骤二、将研磨后的原料烘干；

步骤三、将烘干的原料置于热压烧结炉中，在压力为25～38MPa，温度为1000～1300℃条件下煅烧1～6h，得到锆石基硼硅酸盐玻璃陶瓷。

2.如权利要求1所述的锆石基硼硅酸盐玻璃陶瓷制备方法，其特征在于，所述步骤一中Na2CO3、SiO2、H3BO3和ZrO2的质量比为0.2～2.5:5～16:0.2～2.5：9～9.5。

3.如权利要求1所述的锆石基硼硅酸盐玻璃陶瓷制备方法，其特征在于，所述步骤一中的研磨采用湿法球磨，湿法球磨采用的研磨介质为氧化锆球，采用的分散介质为醚与水的配制的混合液；所述醚为乙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丁二醇单甲醚中的任意一种；所述醚与水的质量比为2～5:1；所述研磨介质、原料、分散介质的质量比为2.5～3:1～1.5:1.2～1.5；研磨的时间为10～12小时；球磨采用的转速为200～500r/min。

4.如权利要求1所述的锆石基硼硅酸盐玻璃陶瓷制备方法，其特征在于，所述步骤二中，烘干的温度为85～100℃，烘干时间为5～8小时。

5.如权利要求1所述的锆石基硼硅酸盐玻璃陶瓷制备方法，其特征在于，所述步骤一中的研磨为低温球磨，其方法为：将原料Na2CO3、SiO2、H3BO3和ZrO2混合后加入到球磨罐中，同时加入氧化锆磨球，向球磨罐中通入液氮，使原料以及氧化锆磨球全部浸没在液氮中，并保持液氮的挥发量与通入量平衡以使液面稳定；恒温15分钟后开始球磨，球磨10～12小时；将球磨后的粉体置于120～160℃的环境中进行氮脱附处理1～2小时，得到研磨后的原料；所述氧化锆磨球与原料的质量比为6～8:1；所述氧化锆磨球的直径为2～5mm；球磨采用的转速为200～500r/min。

6.一种采用如权利要求1～5任一项所述的方法对放射性核素固化的应用，其特征在于，包括以下步骤：

步骤Ⅰ、将原料Na2CO3、SiO2、H3BO3、ZrO2和CeO2混合后进行研磨；

步骤Ⅱ、将研磨后的原料烘干；

步骤Ⅲ、将烘干的原料置于热压烧结炉中，在压力为25～38MPa，温度为1000～1300℃条件下煅烧1～6h，得到0.2B-Zr1-xCexSiO4固化体，其中，0≤x≤0.15。

7.如权利要求6所述的对放射性核素固化的应用，其特征在于，所述步骤Ⅰ中Na2CO3、SiO2、H3BO3、ZrO2和CeO2的质量比为0.45～0.48:6.5～6.8:0.45～0.5:7.5～9.5:0～2。

8.如权利要求6所述对放射性核素固化的应用，其特征在于，所述步骤Ⅰ中的研磨采用湿法球磨，湿法球磨采用的研磨介质为氧化锆球，采用的分散介质为醚与水的配制的混合液；所述醚为乙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丁二醇单甲醚中的任意一种；所述醚与水的质量比为2～5：1；所述研磨介质、原料、分散介质的质量比为2.5～3:1～1.5:1.2～1.5；研磨的时间为10～12小时；球磨采用的转速为200～500r/min；所述步骤Ⅱ中，烘干的温度为85～100℃，烘干时间为5～8小时。

9.如权利要求6所述的对放射性核素固化的应用，其特征在于，所述步骤Ⅰ中的研磨为低温球磨，其方法为：将原料Na2CO3、SiO2、H3BO3、ZrO2和CeO2混合后加入到球磨罐中，同时加入氧化锆磨球，向球磨罐中通入液氮，使原料以及氧化锆磨球全部浸没在液氮中，并保持液氮的挥发量与通入量平衡以使液面稳定；恒温15分钟后开始球磨，球磨10～12小时；将球磨后的粉体置于120～160℃的环境中进行氮脱附处理1～2小时，得到研磨后的原料；所述氧化锆磨球与两种原料的质量比为6～8:1；所述氧化锆磨球的直径为2～5mm；球磨采用的转速为200～500r/min。