1.一种显示面板的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：

(1)提供一柔性基板，对所述柔性基板进行刻蚀处理以形成多个分离设置的基岛，且形成位于相邻所述基岛之间的拉伸区，所述基岛的厚度大于所述拉伸区的厚度；

(2)接着在所述拉伸区中形成平行排列的第一沟槽和第二沟槽，所述第一、第二沟槽的长度均小于所述基岛的长度；

(3)接着在所述柔性基板上形成第一掩膜版以暴露所述第一沟槽，接着在所述第一沟槽中喷涂含有金属纳米线的分散液，以在所述第一沟槽中形成第一金属纳米线层，接着在所述第一金属纳米线层上旋涂树脂材料以形成第一树脂层，接着在所述第一树脂层上喷涂含有金属纳米线的分散液，以形成第二金属纳米线层，接着在所述第二金属纳米线层上旋涂树脂材料以形成第二树脂层，接着在所述第二树脂层上喷涂含有金属纳米线的分散液，以形成第三金属纳米线层，接着在所述第三金属纳米线层上旋涂树脂材料以形成第三树脂层；

(4)接着在所述柔性基板上形成第二掩膜版以暴露所述第二沟槽，接着在所述第二沟槽中喷涂含有金属纳米颗粒的分散液，以在所述第二沟槽中形成第一金属纳米颗粒层，接着在所述第一金属纳米颗粒层上旋涂树脂材料以形成第四树脂层，接着在所述第四树脂层上喷涂含有金属纳米颗粒的分散液，以形成第二金属纳米颗粒层，接着在所述第二金属纳米颗粒层上旋涂树脂材料以形成第五树脂层，接着在所述第五树脂层上喷涂含有金属纳米颗粒的分散液，以形成第三金属纳米颗粒层，接着在所述第三金属纳米颗粒层上旋涂树脂材料以形成第六树脂层；

(5)接着在每个基岛上均形成一显示单元；

(6)接着在所述柔性基板上形成无机封装层，所述无机封装层包括多个无机封装单元，每个所述无机封装单元封装一对应的显示单元，且所述无机封装层不覆盖所述拉伸区；

(7)接着在所述柔性基板上形成有机封装层，所述有机封装层覆盖所述无机封装层及所述拉伸区。

2.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于：在所述步骤(1)中，所述柔性基板的材料是聚酰亚胺、热塑性聚氨酯、聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚苯醚砜或聚碳酸酯，通过激光烧蚀工艺形成所述基岛和所述拉伸区。

3.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于：在所述步骤(2)中，所述第一沟槽和所述第二沟槽均为多个，其多个所述第一沟槽和多个所述第二沟槽分别一一对应，所述拉伸区的厚度与所述第一沟槽的深度的比值为3‑6，所述拉伸区的厚度与所述第二沟槽的深度的比值4‑8。

4.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于：在所述步骤(3)中，所述含有金属纳米线的分散液中的纳米线的浓度为20‑50mg/ml，所述金属纳米线的直径为10‑80纳米，所述金属纳米线的长度为800‑2000纳米，所述金属纳米线的材料为铜、银、金、镍、钴、钛中的一种或多种，所述第一、第二、第三树脂层的材料与所述柔性基板的材料相同。

5.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于：在所述步骤(4)中，所述含有金属纳米颗粒的分散液中的金属纳米颗粒的浓度为25‑60mg/ml，所述金属纳米颗粒的直径为40‑100纳米，所述金属纳米颗粒的材料为铜、银、金、镍、钴、钛中的一种或多种，所述第四、第五、第六树脂层的材料与所述柔性基板的材料相同。

6.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于：在所述步骤(5)中，每个所述显示单元包括至少一个有机发光二极管以及电连接到所述至少一个有机发光二极管的至少一个薄膜晶体管。

7.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于：在所述步骤(6)中，所述无机封装层的材料为氧化硅、氧化锆、氧化铝、氮化硅、氮化铝、氮氧化硅中的一种或多种。

8.根据权利要求1所述的显示面板的制备方法，其特征在于：在所述步骤(7)中，所述有机封装层的材料为聚酰亚胺、热塑性聚氨酯、聚二甲基硅氧烷、硅胶中的一种。

9.一种显示面板，其特征在于，采用权利要求1‑8任一项所述的方法制备形成的。