1.一种磁性斯格明子写入装置，其特征在于，包括：

磁性薄膜和柔性衬底，所述磁性薄膜生长在所述柔性衬底上；

硬质结构，所述硬质结构包括弧面、导磁部和通孔，所述导磁部设于所述硬质结构的与所述弧面相背的一面并伸入所述通孔，所述磁性薄膜设于所述弧面上从而随所述弧面弯曲；

写入单元，用于向所述磁性薄膜写入磁性斯格明子；所述写入单元向所述磁性薄膜写入磁性斯格明子的区域是所述磁性薄膜区域对准所述通孔的区域；

应力提供装置，用于为所述磁性薄膜提供压应力或张应力。

2.根据权利要求1所述的磁性斯格明子写入装置，其特征在于，所述柔性衬底的材料为聚萘二甲酸乙二醇酯或聚对苯二甲酸1,4‑环己烷二甲醇酯。

3.根据权利要求1所述的磁性斯格明子写入装置，其特征在于，所述柔性衬底设于所述磁性薄膜与所述硬质结构之间，所述柔性衬底和所述磁性薄膜随所述弧面弯曲。

4.根据权利要求1所述的磁性斯格明子写入装置，其特征在于，所述导磁部的材料为导磁材料，所述硬质结构的材料为不导磁材料；所述磁性薄膜设于所述硬质结构上形成有导磁部的区域。

5.根据权利要求1所述的磁性斯格明子写入装置，其特征在于，所述导磁部的顶端与所述弧面具有相同的弧度。

6.根据权利要求1所述的磁性斯格明子写入装置，其特征在于，所述磁性薄膜和所述柔性衬底贴在所述硬质结构的弧面上，造成所述柔性衬底发生形变。

7.一种形成磁性斯格明子写入装置的方法，包括：

获取硬质结构，所述硬质结构包括弧面、导磁部和通孔，所述导磁部设于所述硬质结构的与所述弧面相背的一面并伸入所述通孔，磁性薄膜设于所述弧面上从而随所述弧面弯曲；

将磁性薄膜贴在所述弧面上从而使所述磁性薄膜随所述弧面弯曲；所述磁性薄膜用于通过写入单元向所述磁性薄膜写入磁性斯格明子，所述写入单元向所述磁性薄膜写入磁性斯格明子的区域是所述磁性薄膜区域对准所述通孔的区域，所述磁性薄膜生长在柔性衬底上。

8.根据权利要求7所述的形成磁性斯格明子写入装置的方法，其特征在于，所述将磁性薄膜贴在所述弧面上的步骤之前，还包括在柔性衬底的第一面上形成所述磁性薄膜的步骤，所述将磁性薄膜贴在所述弧面上的步骤是将所述柔性衬底贴设于所述弧面上，所述柔性衬底与所述弧面接触的一面是所述柔性衬底的第二面，所述第二面与第一面相背。

9.根据权利要求8所述的形成磁性斯格明子写入装置的方法，其特征在于，所述柔性衬底的材料为聚萘二甲酸乙二醇酯或聚对苯二甲酸1,4‑环己烷二甲醇酯。

10.根据权利要求7所述的形成磁性斯格明子写入装置的方法，其特征在于，所述获取硬质结构的步骤中，所述导磁部的材料为导磁材料，所述硬质结构的材料为不导磁材料；

所述将磁性薄膜贴在所述弧面上的步骤中磁性薄膜贴在所述硬质结构上形成有导磁部的区域。