1.一种以液态金属为基底的研磨盘，其特征在于：包括竖直驱动装置(1)、水平驱动装置(2)、旋转云台(3)、机械抓手(7)、摄像头(5)、抓手气缸(4)、研磨装置(6)和出料装置，所述竖直驱动装置(1)固定在地面上，水平驱动装置(2)安装在竖直驱动装置(1)所驱动的竖直滑块上，所述旋转云台(3)安装在所述水平驱动装置(2)所驱动的水平滑块上，所述旋转云台(3)的下端连接有两个机械抓手(7)，两个机械抓手(7)之间通过抓手气缸(4)连接，通过抓手气缸(4)的运动控制两个机械抓手(7)的开合；所述摄像头(5)设置在旋转云台(3)的底部；

所述研磨装置(6)包括直线驱动气缸(21)、活动板(22)、半导体制冷片(23)、正电极(24)、圆柱外壳(25)、研磨基座板(26)和圆柱底板(27)，所述圆柱底板(27)固定在竖直设置的圆柱外壳(25)的底部，直线驱动气缸(21)固定在圆柱底板(27)上，直线驱动气缸(21)的输出轴竖直设置，且直线驱动气缸(21)的输出轴上端连接活动板(22)的底部，所述活动板(22)为水平设置的活塞型圆板，活动板(22)的四周通过O型密封圈与圆柱外壳(25)的内壁密封连接，所述半导体制冷片(23)固定在所述活动板(22)的上端面上；所述正电极(24)固定在半导体制冷片(23)上表面上，所述研磨基座板(26)固定在圆柱外壳(25)的近上端，研磨基座板(26)的边缘与圆柱外壳(25)的内壁固定连接；所述研磨基座板(26)上设置有多个上下贯穿的通孔和均匀分布的凸起；研磨基座板(26)和活动板(22)之间的圆柱外壳(25)内部灌装有液态金属抛光液；直线驱动气缸(21)运动时推动活动板(22)向上移动，带动液态金属抛光液向上移动并由研磨基座板(26)的通孔向上渗出，直至淹没研磨基座板(26)上的凸起；

所述出料装置设置在研磨盘侧面，出料装置包括工作台(8)、旋转电机(9)、齿轮(10)、齿条(11)、直线导轨(12)、移动板(13)、料斗(14)、料斗盖(15)、出料电机，所述旋转电机(9)固定在工作台(8)上，旋转电机(9)的输出轴连接齿轮(10)，所述齿轮(10)与齿条(11)相啮合，所述齿条(11)套装在水平设置的直线导轨(12)上，所述直线导轨(12)固定在工作台(8)上，所述移动板(13)固定在齿条(11)上；所述出料电机和料斗(14)均固定在移动板(13)，所述料斗盖(15)设置在料斗(14)上，出料电机连接料斗盖(15)，出料电机运动时控制料斗盖(15)从料斗(14)的进料口处移开。

2.根据权利要求1所述的以液态金属为基底的研磨盘，其特征在于：所述以液态金属为基底的研磨盘还包括除料装置，所述除料装置设置在移动板(13)上，所述除料装置包括吸气口(16)、气管(17)、储尘桶(18)、驱动电机(19)和风扇(20)，所述驱动电机(19)设置在储尘桶(18)内部，所述气管(17)的一端连接除尘筒，气管(17)的另一端连接吸气口(16)，驱动电机(19)的输出轴连接风扇(20)，驱动电机(19)运动时带动风扇(20)进行转动，使气管(17)另一端的吸气口(16)产生吸力，将研磨基座板(26)上方的灰尘或物料吸走。

3.根据权利要求2所述的以液态金属为基底的研磨盘，其特征在于：所述摄像头(5)识别研磨盘，并将研磨盘信息传输给控制系统，控制系统计算研磨盘位置、计算研磨盘需要移动的距离，控制系统根据计算结果控制竖直驱动装置(1)、水平驱动装置(2)进行运动，使旋转云台(3)移动到研磨盘的正上方，再利用抓手气缸(4)的开合使机械抓手(7)抓取研磨盘。

4.根据权利要求3所述的以液态金属为基底的研磨盘，其特征在于：所述研磨基座板(26)上方的直线驱动气缸(21)内壁沿周向设置有多个横向凸起。