1.一种低温化学镀Ni-B二元合金层的化学镀液，其特征在于，所述化学镀液原料组分包括：16～80g/L镍盐，30～80g/L复合络合剂，0.02～2g/L含氧阴离子稳定剂，5～25g/L有机醇胺类促进剂，2～10g/L硼氢化物还原剂，10～1000mg/L醇醚类物质表面改性剂，混合后得化学镀液。

2.根据权利要求1所述低温化学镀Ni-B二元合金层的化学镀液，其特征在于，所述镍盐为硫酸镍、氯化镍、醋酸镍，氨基磺酸镍中的一种或多种；浓度范围为20～60g/L。

3.根据权利要求1所述低温化学镀Ni-B二元合金层的化学镀液，其特征在于，所述复合络合剂为甘氨酸、乳酸、柠檬酸和乙二胺四乙酸钠中的两种或两种以上物质组合。

4.根据权利要求1所述低温化学镀Ni-B二元合金层的化学镀液，其特征在于，所述含氧阴离子稳定剂为 中的一种或多种，浓度范围为0.1～1g/L。

5.根据权利要求1所述低温化学镀Ni-B二元合金层的化学镀液，其特征在于，所述有机醇胺类加速剂为乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、N-甲基二乙醇胺、N,N-二甲基乙醇胺、二环已胺中的一种或几种，浓度范围为5～20g/L。

6.根据权利要求1所述低温化学镀Ni-B二元合金层的化学镀液，其特征在于，所述硼氢化物还原剂为硼氢化钠或硼氢化钾。

7.根据权利要求1所述低温化学镀Ni-B二元合金层的化学镀液，其特征在于，所述醇醚类物质表面改性剂为二甘醇、三甘醇、分子量200～6000聚乙二醇(PEG)中的一种或多种，浓度范围为50～200mg/L。

8.一种低温化学镀Ni-B二元合金层的方法，其特征在于，使用权利要求1-7任一项所述的Ni-B二元合金层的化学镀液。

9.根据权利要求8所述低温化学镀Ni-B二元合金层的方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)先对基材进行碱洗、酸洗、表面活化处理；

(2)将步骤(1)处理后的基材浸入化学镀液中进行施镀，施镀温度为20～60℃，施镀pH值为12.0～14.0，施镀时间为15～30min，镀液在该施镀条件下进行连续施镀；

(3)镀后处理：施镀完成的将镀片放入流动去离子水中清洗，清洗干净后吹干。

10.根据权利要求9所述低温化学镀Ni-B二元合金层的方法，其特征在于，Ni-B镀层中的硼含量为6wt％～10wt％，其余为镍。