1.用于超音速激光沉积激光均匀加热及成形轨迹调节的装置，其特征在于，包括：

激光发射装置，包括激光器和固定装置，固定装置的激光通路与发射激光束同轴，用于将激光器发出的发射激光束引至激光汇聚装置上；

激光汇聚装置，设置在固定装置的激光通路下方，包括菱形分光器和环形反射镜，菱形分光器的顶部入射端设置在固定装置的激光通路的激光出口处，用于将发射激光束分散成若干条入射激光束；所述环形反射镜通过固定装置套于菱形分光器的外部，用于将多道入射激光束汇反射形成的反射激光束聚于位于菱形分光器下方的焦点处形成光斑；

遮光装置，包括固定器和调节式遮光部，其中固定器通过固定装置套设于菱形分光器外部，用于固定调节式遮光部；所述调节式遮光部安装于固定器上，并沿固定器周向调整遮光区的大小以控制照射至环形反射镜上的激光光束的光照强度；

以及冷喷涂轨迹调节装置，设置于菱形分光器的下方，包括送粉装置和喷嘴位置调节装置，送粉装置的喷嘴安装于喷嘴位置调节装置的活动部，并保持喷嘴喷出的粉斑与光斑完全或部分重合。

2.如权利要求1所述的用于超音速激光沉积激光均匀加热及成形轨迹调节的装置，其特征在于：所述固定装置包括中空固定筒、第一固定杆和第二固定杆，所述中空固定筒轴向设有用于供入射激光光束通过的激光通路，且中空固定筒的激光出口与菱形分光器的顶部入射端相连，使得激光器发出的发射激光束照射至菱形分光器的顶部入射端；所述中空固定筒通过第一固定杆与激光汇聚装置的环形反射镜相连，通过第二固定杆与套于菱形分光器外部的遮光装置相连。

3.如权利要求1所述的用于超音速激光沉积激光均匀加热及成形轨迹调节的装置，其特征在于：所述调节式遮光部包括两根平行的遮光卷筒、固定螺栓、弹簧片以及遮光材料层，所述遮光卷筒的分别通过固定螺栓锁定连接于固定器上，遮光卷筒之间通过可绕于遮光卷筒上的弹簧片相连；弹簧片的表面覆盖遮光材料层形成遮光区，通过调整两遮光卷筒之间的距离调整遮光区的大小。

4.如权利要求3所述的用于超音速激光沉积激光均匀加热及成形轨迹调节的装置，其特征在于：所述的调节式遮光部共两套，对称安装于固定器上，并保持两套调整式遮光部的遮光区正对。

5.如权利要求4所述的用于超音速激光沉积激光均匀加热及成形轨迹调节的装置，其特征在于：所述的固定器为环道固定器。

6.如权利要求1所述的用于超音速激光沉积激光均匀加热及成形轨迹调节的装置，其特征在于：所述的喷嘴位置调节装置包括驱动电机、双面齿条和齿套，所述的驱动电机安装于送粉装置上，并且驱动电机的输出轴上配装可与双面齿轮其中一侧的齿啮合的齿轮；齿套固装于喷嘴上，并且齿套外部的齿与双面齿条的第二侧的齿啮合，使得喷嘴在驱动电机的带动下沿双面齿条轴向移动以调整喷嘴喷出的粉斑的位置。

7.如权利要求6所述的用于超音速激光沉积激光均匀加热及成形轨迹调节的装置，其特征在于：所述喷嘴为拉瓦尔喷嘴，且喷嘴的中心轴与经环形反射镜反射的入射激光束中心轴同轴或平行，使得粉斑与光斑同圆心或部分重叠，二者重叠的部分为沉积区。

8.如权利要求7所述的用于超音速激光沉积激光均匀加热及成形轨迹调节的装置，其特征在于：光斑直径大于粉斑直径。

9.如权利要求1所述的用于超音速激光沉积激光均匀加热及成形轨迹调节的装置，其特征在于：所述的激光器可为光纤激光器、CO2激光器或半导体激光器。