1.一种低温烧结氧化铝陶瓷膜的制备方法，其特征在于：原料包括α‑Al2O3粉、烧结助剂、塑化剂、造孔剂、增塑剂、润滑剂、黏合剂、分散剂和溶剂；

烧结助剂是由高岭土、氧化镁、碳酸钙、硅微粉、高硼硅玻璃粉和水玻璃构成，按照质量百分比为（30wt% 40wt%）：（15wt% 25wt%）：（5wt% 15wt%）：（15wt% 25wt%）：（5wt% 15wt%）：~ ~ ~ ~ ~

（1wt% 10wt%）混合，各组分质量百分比之和为100%；

~

塑化剂是由易溶于水的甲基纤维素、羧甲基纤维素钠、羟乙基纤维素、羟丙基甲基纤维素、或聚乙烯醇中的一种或一种以上构成；

造孔剂是由淀粉、石墨、竹粉、或纤维素中的一种或一种以上构成；

增塑剂是由甘油、聚乙二醇、聚乙烯醇、或聚丙烯酸中的一种或一种以上构成；

润滑剂是由油酸、桐油、硬脂酸铝、或石墨中的一种或一种以上构成；

黏合剂是由甲基纤维素、羧甲基纤维素钠、羟丙基甲基纤维素、羟乙基纤维素、或聚乙烯醇中的一种或一种以上构成；

分散剂是由聚丙烯酸、聚丙烯酸胺、聚丙烯酸钠、多聚磷酸、硬脂酸钾、或柠檬酸铵中的一种或一种以上构成；

溶剂是由水、乙醇或水和乙醇形成的混合物中的一种或一种以上构成；

具体制备步骤如下：

（1）基材制备

将粒径范围是1~50μm的α‑Al2O3粉、烧结助剂、塑化剂、造孔剂、增塑剂、润滑剂和溶剂，按照质量百分比为（95wt% 75wt%）：（25wt% 5wt%）：（1wt% 10wt%）：（1wt% 10wt%）：（0.5wt%~ ~ ~ ~ ~

5wt%）：（1wt% 10wt%）：（10wt% 30wt%）混合；除溶剂外，各组分质量百分比之和为100%；然后~ ~进行混合、捏合、练泥、挤出、烘干和烧结处理，即可得到低温烧结氧化铝陶瓷基材；

基材制备过程中混合、捏合、练泥、挤出、烘干和烧结，在强力混料机运行过程中按照如下顺序和操作添加各种原料：氧化铝粉、塑化剂、已经按比例混合好的烧结助剂、造孔剂、溶解增塑剂的溶剂和润滑剂；

每添加一种原料，都需要混合1 10min，混料过程中温度不超过34℃；

~

然后在捏合机中捏合10 60min，捏合过程中温度也不超过34℃；

~

在带冷却水的粗练泥机上练泥1 3遍后，真空度不小于‑0.095MPa下练泥一遍；

~

在温度是20 25℃和湿度是50 80%下陈腐12 72h；根据设计要求挤出成型，加工单通道~ ~ ~管式、多通道平板式和多通道管式的氧化铝基材；挤出机的真空度在‑0.095MPa以上，挤出速度是0.1 5m/min，挤出压力是1 10MPa下挤出成型；

~ ~

然后再转运到鼓风干燥箱中，在50 120℃下烘干1 24h；将烘干的素坯转运到高温电阻~ ~炉、燃气梭式或抽屉式窑炉和燃气隧道窑炉中的一种，空气气氛下脱胶和烧成；

（2）膜层制备

将粒径范围是0.1~0.5μm的α‑Al2O3粉、烧结助剂、黏合剂、分散剂和溶剂按照质量百分比（50wt%‑10wt%）：（0.1wt%‑5wt%）：（0.1wt%‑5wt%）：（0.1wt%‑2wt%）：（50wt%‑90wt%）混合，各组分质量百分比之和为100%；烧结助剂与步骤（1）相同；将上述原料按比例混合均匀后并球磨1 12h，得到分散均匀和流延性好的浆料；然后进行涂覆、烘干和烧结处理，即可得到低~温烧结氧化铝陶瓷膜；

膜层制备过程中涂覆、烘干和烧结，采用喷涂或浸涂工艺将配制好的浆料均匀涂覆在步骤（1）制备的基材上，并转运至箱式微波干燥器中，微波功率是300 850W，微波时间是0.2~

1h，

~

或转运至鼓风干燥箱中，在80 120℃下烘干1 4h；然后转运到高温电阻炉、燃气梭式或~ ~抽屉式窑炉和燃气隧道窑炉中的一种，空气气氛下烧结；

烧结制度控制如下：从室温 150℃，升温速率为10 30℃/min；从150 550℃，升温速率~ ~ ~为20 50℃/min；550 600℃，升温速率为5 10℃/min，保温1 3h；400 膜层烧成温度，升温速~ ~ ~ ~ ~率为20 50℃/min；烧成温度范围1000 1200℃，保温1 3h；然后自然降温至室温。

~ ~ ~

2.根据权利要求1所述的一种低温烧结氧化铝陶瓷膜的制备方法，其特征在于：挤出成型后，切割成所需长度后转运到连续微波中快速定型，每个箱体的功率在300 850W范围内~调节，传送带速度是0.5 5m/min。

~

3.根据权利要求1所述的一种低温烧结氧化铝陶瓷膜的制备方法，其特征在于：挤出成型的模具是单通道管式、多通道平板式和多通道管式中的一种。