1.一种基于等离子体蚀刻的连续双面蚀刻光学器件的装置，其特征在于：它包括由右往左依次设置的光学器件正反面蚀刻装置、光学器件冷却装置和光学器件烘干及收集装置，所述光学器件正反面蚀刻装置包括机箱(1)、设置于机箱(1)顶部的顶盖(2)、设置于机箱(1)左右侧壁上的左输送装置(3)和右输送装置(4)，所述右输送装置包括电机(5)、皮带(6)、主动皮带轮(7)、从动皮带轮(8)、水平槽钢(9)、开设于机箱(1)右侧壁上的通槽(10)，所述水平槽钢(9)焊接于通槽(10)内，水平槽钢(9)的凹槽朝上设置，且与通槽(10)之间留有便于光学器件穿过通槽(10)的间隙I，水平槽钢(9)的右端部延伸于机箱(1)外部，水平槽钢(9)的左端部延伸于机箱(1)内，水平槽钢(9)的凹槽内位于其左右端均经转轴旋转安装有从动皮带轮(8)和主动皮带轮(7)，从动皮带轮(8)和从动皮带轮(8)之间安装有皮带(6)，电机(5)固定安装于水平槽钢(9)的外壁上，且电机(5)的输出轴贯穿水平槽钢(9)且与主动皮带轮(7)的转轴经联轴器连接，所述机箱(1)内还设置有用于翻转光学器件的翻面机构，翻转机构位于左输送装置(3)和右输送装置(4)之间，翻面机构包括步进电机(11)、筒体(12)和固定板(13)，所述筒体(12)的两端分别旋转安装于机箱(1)的前后侧壁上，筒体(12)的外壁上沿其周向均匀焊接有四个固定板(13)，步进电机(11)固定安装于机箱(1)后壁上，且其输出轴贯穿机箱(1)且与筒体(12)的一转轴经联轴器连接，该光学器件正反面蚀刻装置还包括设置于机箱(1)外部的高频电源(14)、截止阀(15)、气瓶(16)、开关(17)和天线(18)，天线(18)设置于顶盖(2)上且伸入于机箱(1)内，气瓶(16)的出口端与机箱(1)之间连接有截止阀(15)，高频电源(14)与天线(18)之间经导线连接有开关(17)；所述光学器件冷却装置包括水箱(19)、水泵(20)、出水管(21)、滚筒(22)和弯折板(23)，弯折板(23)的斜板焊接于左输送装置(3)的水平槽钢(9)的左端部，弯折板(23)的水平板位于斜板的左侧，弯折板(23)的外部设置有水箱(19)，水箱(19)内设置有位于弯折板(23)正上方的出水管(21)，出水管(21)的底表面上且沿其长度方向设置有多个喷头(24)，出水管(21)的一端封闭，另一端贯穿水箱(19)且与水泵(20)的出水口径管卡连接，弯折板(23)上设置有多个漏水孔(25)，滚筒(22)设置于水箱(19)内，滚筒(22)的两端旋转安装于水箱(19)的前后侧壁上，滚筒(22)位于水平板的正上方，且与水平板、之间留有便于光学器件通过的间隙II，滚筒(22)的外部套有干布层(26)，所述光学器件烘干及收集装置包括收集箱(27)、水平气缸(28)和电阻丝(29)，所述收集箱(27)的开口位于水平板、的下方，收集箱(27)的内壁上设置有多根电阻丝(29)，水平气缸(28)固定安装于收集箱(27)的右侧壁上，水平气缸(28)的活塞杆贯穿收集箱(27)且延伸端上焊接有推板(30)。

2.根据权利要求1所述的一种基于等离子体蚀刻的连续双面蚀刻光学器件的装置，其特征在于：所述左输送装置(3)和右输送装置(4)左右对称设置。

3.根据权利要求1所述的一种基于等离子体蚀刻的连续双面蚀刻光学器件的装置，其特征在于：所述筒体(12)的前后端焊接有圆盘(31)，所述固定板(13)位于两个圆盘(31)之间。

4.根据权利要求1所述的一种基于等离子体蚀刻的连续双面蚀刻光学器件的装置，其特征在于：所述顶盖(2)的底表面上设置有温度传感器(32)和压力传感器(33)。

5.根据权利要求1所述的一种基于等离子体蚀刻的连续双面蚀刻光学器件的装置，其特征在于：所述顶盖(2)上设置有泄压阀(34)。

6.根据权利要求1所述的一种基于等离子体蚀刻的连续双面蚀刻光学器件的装置，其特征在于：所述水箱(19)的底表面向右倾斜向下设置，水箱(19)的右侧设置有水回收箱(35)。

7.根据权利要求1所述的一种基于等离子体蚀刻的连续双面蚀刻光学器件的装置，其特征在于：所述机箱(1)的左外侧壁和后侧壁内均设置有保护膜刮除装置(36)，位于左外侧壁上的保护膜刮除装置(36)设置于左输送装置(3)的皮带(6)的正上方，且位于通槽(10)上方，位于后侧壁上的保护膜刮除装置(36)设置于右输送装置(4)的皮带(6)的正上方。

8.根据权利要求7所述的一种基于等离子体蚀刻的连续双面蚀刻光学器件的装置，其特征在于：所述保护膜刮除装置(36)均包括垂向气缸(37)、支架(38)、压轮(39)和刮刀(40)，所述垂向气缸(37)均固定安装于机箱(1)上，支架(38)焊接于垂向气缸(37)活塞杆的作用端，压轮(39)纵向设置且其两端均经转轴旋转安装于支架(38)上，刮刀(40)焊接于支架(38)上且位于压轮(39)的左侧，所述刮刀(40)的底表面与压轮(39)的底表面平齐。

9.根据权利要求1所述的一种基于等离子体蚀刻的连续双面蚀刻光学器件的装置，其特征在于：所述机箱(1)的前侧设置有观察窗，所述顶盖(2)经螺钉固定于机箱(1)上。

10.根据权利要求1所述的一种基于等离子体蚀刻的连续双面蚀刻光学器件的装置，其特征在于：还包括PLC控制器(41)，所述PLC控制器(41)与开关(17)、截止阀(15)、泄压阀(34)、电机(5)、步进电机(11)、垂向气缸(37)、温度传感器(32)和压力传感器(33)、水平气缸(28)和水泵(20)电连接。