1.一种并行周向连续式等离子体镀膜装置，其特征在于：包括工艺腔体、回转腔体、进料系统、真空系统、物料车，工艺腔体内设置有多组工艺组件密封板、周向分布的多组储料腔、回转装置、物料引导装置、进料口，回转腔体设置有回转伸缩装置、物料传导装置、物料腔，进料口设置有可开合的密封门板，真空系统分别对工艺腔体与回转腔体的组合体、进料口进行真空处理，物料车上装载树形单挂物料，工艺腔体内形成独立真空室并独立进行工艺处理，回转装置实现物料车的传动及自转，回转腔体内的物料腔可与储料腔及进料口形成密封的独立真空室并实现物料车传导，进料系统可将物料取出及放入。

2.根据权利要求1所述的并行周向连续式等离子体镀膜装置，其特征在于：所述的工艺腔体内设置有多组工艺组件密封板、周向分布的多组储料腔、回转装置、物料引导装置，所述的多组工艺组件密封板装配有气相沉积工艺模块，并可与之相对的储料腔形成独立的真空室，从而独立进行相应的气相沉积工艺处理，所述的多组储料腔装配在回转装置上，所述回转装置可实现储料腔的公转及储物腔内的物料车自转，所述物料引导装置装配在储料腔内，通过气缸伸展推动，可实现物料车在工艺腔体及回转腔体之间传导。

3.根据权利要求1所述的并行周向连续式等离子体镀膜装置，其特征在于：所述的回转腔体设置有回转伸缩装置、物料传导装置、物料腔，所述物料腔有两组，装配在回转伸缩装置上，所述回转伸缩装置可通过双向气缸实现物料腔的伸缩及转动，一个物料腔与所述工艺腔体内的储料腔形成密封的导料真空室并通过物料传导装置实现物料车的传导，另一个物料腔与进料口形成进出料真空室，可通过进料口门板的开合将物料取出放入物料车上。

4.根据权利要求1所述的并行周向连续式等离子体镀膜装置，其特征在于：所述的进料口上设置有可开合的进料门板，进料口与回转腔体、工艺腔体通过螺栓禁锢。

5.根据权利要求1所述的并行周向连续式等离子体镀膜装置，其特征在于：所述的真空系统包括分别对工艺腔体与回转腔体的组合体、进料口进行独立真空处理的真空泵组。

6.根据权利要求1所述的并行周向连续式等离子体镀膜装置，其特征在于：所述的物料车为带有转动轮的可装载单挂树形夹具的运输平台，所述物料车通过机械装配实现物料车与所述工艺腔体内的回转装置之间齿轮传动，从而实现物料车上树形夹具的自转。

7.根据权利要求3所述的并行周向连续式等离子体镀膜装置，其特征在于：所述的工艺腔体内可独立进行气相沉积工艺处理，所述导料真空室及进出料真空室可进行物料的传导及取出、放入,所述的工艺模块包括磁控溅射模块、电弧离子镀模块、离子源模块及其他气相沉积模块。

8.根据权利要求2或3所述的并行周向连续式等离子体镀膜装置，其特征在于：所述的物料传导装置及物料引导装置是通过气缸的伸展推动物料的移动，并通过机械杆卡位实现物料车的平稳传导，所述的工艺腔体内通过气缸驱动工艺组件密封板与相对的储料腔形成独立的密封工艺真空室，所述回转腔体内的两组物料腔通过回转伸缩装置的伸缩分别与工艺腔体内的储物腔及进料口形成独立的密封导料真空室及进出料真空室。

9.根据权利要求1所述的并行周向连续式等离子体镀膜装置，其特征在于：所述的回转腔体内气体、水冷及其他辅助组件是通过装配在工艺腔体、回转腔体上板上的同步转动轴通过与工艺腔体及回转腔体转动电极同步转动来实现传动过程组件的同轴转动，同步转动轴外端装配有万向接头。

10.根据权利要求1所述的并行周向连续式等离子体镀膜装置，其特征在于：所述的物料腔上装配有电磁控制的外接抽气阀，可通过抽气阀的开合，实现在形成独立密封导料真空室时的真空处理；所述的工艺组件密封板上有通过波纹管与真空系统连接的管路,可对工艺真空室在工艺过程中进行真空处理。