1.一种3C铝制件表面处理的PVD真空镀膜工艺，其特征在于，包含以下步骤：步骤1、将铝制件清洗后放入真空室内加热烘干，随后向真空室内通入氩气使其内真空‑1度达到(5.0‑8.0)×10 Pa，对铝制件进行离子清洗；

‑3

步骤2、离子清洗后，关闭氩气、辅助偏压，调整真空室的真空度至(1.0‑3.0)×10 Pa；

‑1

再次向真空室内通入氩气使真空度维持在10 Pa数量级的动态平衡压强；

采用真空平面磁控溅射镀膜工艺，溅射电源采用中频电源，依次为铝制件镀上Cr基层镀层、CrN第一过渡层、CrSiN第二过渡层和Cr第三过渡层；

完成铝制件表面处理，此时铝制件的颜色为银色；

其中，第一过渡层CrN层数为1‑4层，单层的时间控制在10‑30min，铬靶靶电流为20‑

40A，靶电压为300‑600V，辅助偏压电压为10‑100V，真空室温度为100‑150℃；第二过渡层CrSiN层数为1‑3层，单层的时间控制在10‑30min，铬靶靶电流为20‑40A，靶电压为300‑

600V，硅靶靶电流为10‑30A，靶电压为300‑600V，辅助偏压电压为10‑100V，真空室温度为

100‑150℃；基层镀膜Cr镀膜过程中，铬靶靶电流为20‑40A，靶电压为300‑600V，镀膜时间为

10‑30min，辅助偏压电压为50‑100V，真空室温度为100‑150℃；第三镀层Cr层时间为15‑

35min，铬靶靶电流为20‑40A，靶电压为300‑600V，辅助偏压电压为10‑100V，真空室温度为

100‑150℃；

步骤3、随后换真空室，采用中频电源作为溅射电源，以多弧离子镀或者真空平面磁控溅射镀的方式，为铝制件镀上颜色层；以TiN颜色镀层将铝制件镀成金色，TiN层数控制在5‑

20层，单层时间控制在5‑10min；其中钛靶靶电流20‑40A，靶电压为300‑600V，辅助偏压电压为10‑100V，氮气流量为10‑100SCCM；或以TiC黑色镀层将铝制件镀成黑色，TiC层数为10‑30层，单层时间控制在5‑10min；其中钛靶靶电流为20‑40A，靶电压为300‑600V，辅助偏压电压为10‑100V，碳氢气体流量为20‑200SCCM。

2.根据权利要求1所述的3C铝制件表面处理的PVD真空镀膜工艺，其特征在于，步骤1中‑3铝制件清洗后的烘干条件为：真空度为(3.0‑6.0)×10 Pa，加热温度为100‑200℃，加热时间为30‑60min；离子清洗的条件为：辅助偏压电压为200‑600V，离子清洗时间为20‑60min。