1.一种消毒器，其特征在于，包括：处理器、用于发射紫外线的LED光源以及温度传感器；

所述温度传感器检测消毒器所处环境的温度，并将检测得到的温度发送至所述处理器；

所述处理器接收所述温度，并利用所述温度调整预设的基准消毒时间得到消毒时间，其中，所述基准消毒时间是根据用户选择的消毒模式得到的时间；

所述处理器以所述消毒时间为驱动时长，驱动所述LED光源发射紫外线；

所述消毒器还包括：距离传感器；

所述距离传感器检测所述消毒器到待消毒对象之间的距离，并向所述处理器发送所述距离；

所述处理器根据所述距离和所述LED光源的照射角，计算所述紫外线照射在所述待消毒对象上的照射面积；

所述处理器根据所述照射面积提示用户调整所述消毒器与所述待消毒对象之间的距离。

2.如权利要求1所述的消毒器，其特征在于，还包括：湿度传感器；

所述湿度传感器检测所述消毒器所处环境的湿度，并将所述湿度发送至所述处理器；

相应的，所述处理器接收所述温度，并利用所述温度调整预设的基准消毒时间得到消毒时间的步骤，包括：所述处理器接收所述温度和湿度，并利用所述温度和所述湿度调整预设的基准消毒时间得到消毒时间。

3.如权利要求1所述的消毒器，其特征在于，还包括：环境光传感器；

所述环境光传感器检测所述消毒器所处环境的光强度，并将所述光强度发送至所述处理器；

相应的，所述处理器接收所述温度，并利用所述温度调整预设的基准消毒时间得到消毒时间的步骤，包括：所述处理器接收所述温度和光强度，并利用所述温度和所述光强度调整预设的基准消毒时间得到消毒时间。

4.如权利要求2所述的消毒器，其特征在于，还包括：环境光传感器；

所述环境光传感器检测所述消毒器所处环境的光强度，并将所述光强度发送至所述处理器；

相应的，所述处理器接收所述温度和湿度，并利用所述温度和所述湿度调整预设的基准消毒时间得到消毒时间的步骤，包括：所述处理器接收所述温度、湿度和光强度，并利用所述温度、所述湿度以及所述光强度调整预设的基准消毒时间得到消毒时间。

5.一种消毒方法，其特征在于，应用于消毒器中的处理器，所述方法包括：获取消毒器所处环境的温度；

利用所述温度调整预设的基准消毒时间得到消毒时间，其中，所述基准消毒时间是根据用户选择的消毒模式得到的时间；

以所述消毒时间为驱动时长，驱动所述消毒器内的LED光源发射紫外线；

所述方法还包括：获取所述消毒器到待消毒对象之间的距离；

根据所述距离和所述LED光源的照射角，计算所述紫外线照射在所述待消毒对象上的照射面积；

根据所述照射面积提示用户调整所述消毒器与所述待消毒对象之间的距离。

6.如权利要求5所述的方法，其特征在于，在所述利用所述温度调整预设的基准消毒时间得到消毒时间的步骤之前，还包括：获取所述消毒器所处环境的湿度；

相应的，利用所述温度调整预设的基准消毒时间得到消毒时间的步骤，包括：利用所述温度和所述湿度调整预设的基准消毒时间得到消毒时间。

7.如权利要求5所述的方法，其特征在于，在所述利用所述温度调整预设的基准消毒时间得到消毒时间的步骤之前，还包括：获取所述消毒器所处环境的光强度；

相应的，所述利用所述温度调整预设的基准消毒时间得到消毒时间的步骤，包括：利用所述温度和所述光强度调整预设的基准消毒时间得到消毒时间。

8.如权利要求6所述的方法，其特征在于，在所述利用所述温度和所述湿度调整预设的基准消毒时间得到消毒时间的步骤之前，还包括：获取所述消毒器所处环境的光强度；

相应的，所述利用所述温度和所述湿度调整预设的基准消毒时间得到消毒时间的步骤，包括：利用所述温度、所述湿度以及所述光强度调整预设的基准消毒时间得到消毒时间。