1.一种电催化全解水纳米片阵列材料的制备方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

1）配置前驱体溶液：将两种含有不同金属元素的金属化合物和有机配体溶于水中，混合均匀得到前驱体溶液；

2）原位合成：将经过预处理的导电基底置于前驱体溶液中，对其进行水热处理，水热处理结束后即在导电基底表面制备得到电催化全解水纳米片阵列材料。

2.根据权利要求1所述的一种电催化全解水纳米片阵列材料的制备方法，其特征在于，步骤1）所述金属元素包括镍、锰、钼、铁、锌、钴；

步骤1）所述有机配体为2-甲基咪唑。

3.根据权利要求1或2所述的一种电催化全解水纳米片阵列材料的制备方法，其特征在于，步骤1）所述前驱体溶液中，两种含有不同金属元素的金属化合物总浓度为0.05～

0.5mol/L；

步骤1）所述前驱体溶液中，有机配体浓度为0.05～0.5mol/L。

4.根据权利要求3所述的一种电催化全解水纳米片阵列材料的制备方法，其特征在于，步骤1）所述前驱体溶液中，两种金属元素的摩尔比为1：（2.5～3.5）；

步骤1）所述前驱体溶液中，两种金属元素的总摩尔浓度与有机配体的摩尔浓度比为（1～5）：（1～5）。

5.根据权利要求1所述的一种电催化全解水纳米片阵列材料的制备方法，其特征在于，步骤2）所述导电基底包括金属铜、金属镍、金属钛、石墨烯。

6.根据权利要求1所述的一种电催化全解水纳米片阵列材料的制备方法，其特征在于，步骤2）所述水热处理的条件为：水热温度为100～180℃，水热时长为6～48h。

7.根据权利要求1 或6所述的一种电催化全解水纳米片阵列材料的制备方法，其特征在于，步骤2）所述水热处理的条件为：

水热温度为125～135℃，水热时长为9～11h。