1.一种磁控溅射反应设备换样片装置，包括取样长杆，其特征在于，所述装置还包括圆筒、样片基座及设于取样长杆前部的长杆端部，所述长杆端部包括长杆端头、电磁铁、伸缩机构及微动开关，所述电磁铁、伸缩机构及微动开关设于圆筒内，所述电磁铁设于长杆端头的后方，所述电磁铁后方装设有伸缩机构，所述伸缩机构的尾端伸缩接触微动开关，所述样片基座包括设有凹陷口的尾端，所述长杆端头在尾端的凹陷口进出。

2.如权利要求1所述的一种磁控溅射反应设备换样片装置，其特征在于，所述伸缩机构包括小杆、卡位圆环、弹簧，所述电磁铁后方中央设有供小杆端部伸入的容纳腔，所述弹簧套设在小杆外，所述弹簧的前端固定在电磁铁后方，所述弹簧的后端与接触块固定，所述卡位圆环固定在圆筒内壁上，长杆端头及电磁铁向后移动时，所述接触块与微动开关接触。

3.如权利要求1所述的一种磁控溅射反应设备换样片装置，其特征在于，所述长杆端头为圆台状，所述样片基座的凹陷口为与长杆端头相匹配的圆台状凹陷口。

4.如权利要求1所述的一种磁控溅射反应设备换样片装置，其特征在于，所述电磁铁后方固定有电磁铁基座。

5.如权利要求1所述的一种磁控溅射反应设备换样片装置，其特征在于，所述样片基座中部设有样片放置区。

6.如权利要求5所述的一种磁控溅射反应设备换样片装置，其特征在于，所述样片放置区为下凹成圆形的磁控溅射基底。

7.如权利要求1所述的一种磁控溅射反应设备换样片装置，其特征在于，所述微动开关前部设有接触片，所述伸缩机构的尾端与所述接触片通过伸缩接触。

8.如权利要求1所述的一种磁控溅射反应设备换样片装置，其特征在于，所述微动开关安装在开关基座上。

9.如权利要求1所述的一种磁控溅射反应设备换样片装置，其特征在于，所述样片基座为片状。

10.如权利要求1所述的一种磁控溅射反应设备换样片装置，其特征在于，所述样片基座的基座前端为矩形凸起。