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专利号: 2019102673545
申请人: 浙江科技学院
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2025-10-14
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种聚焦型的多层超表面阵列天线,其特征在于:该阵列天线由两个以上移相单元(8)排列组成的阵列相位板(9);所述移相单元(8)包括上下连接的上介电层(1)和下介质层(2),所述上介质层(1)和下介质层(2)均为边长为3mm正方形;所述上介质层(1)的上表面、上介质层(1)与下介质层(2)的连接面、下介质层(2)的底面均设有金属贴片(3);所述的金属贴片(3)由外圆环(4)和内圆环(5)组成,外圆环(4)、内圆环(5)的圆心分别与正方形的中心重合;所述外圆环(4)的外圆与正方形相切;所述的阵列相位板(9)包括位于中心的中心移相单元(6),中心移相单元(6)向外呈包围状排列多层相位层(7),相位层(7)由n×8个移相单元(8)呈正方形包围组成,n为相位层(7)的层数,且n≧1;所述的相位层(7)从内至外移相单元(8)的内圆环(5)的面积从大到小设置,且移动单元(8)的外圆环的面积从小至大设置。

2.根据权利要求1所述的聚焦型的多层超表面阵列天线,其特征在于:所述每一相位层(7)中移相单元的金属贴片(3)的外圆环(4)的内半径相同。

3.根据权利要求1所述的聚焦型的多层超表面阵列天线,其特征在于:所述外圆环(4)的内半径是内圆环(5)的外半径的2倍。

4.根据权利要求1所述的聚焦型的多层超表面阵列天线,其特征在于:所述内圆环(5)的内半径为0.1mm。

5.根据权利要求1所述的聚焦型的多层超表面阵列天线,其特征在于:所述的相位层(7)的层数为7层。

6.根据权利要求1所述的的聚焦型的多层超表面阵列天线,其特征在于:所述每一相位层(7)中移相单元(7)表面的金属贴片(4)的表面积相同。

7.根据权利要求1所述的聚焦型的多层超表面阵列天线,其特征在于:所述上介电层(1)和下介质层(2)的介电常数均为2.0,厚度均为0.8mm。

8.根据权利要求1所述的聚焦型的多层超表面阵列天线,其特征在于:所述金属贴片(3)的厚度为0.035mm。