1.一种近零膨胀薄膜材料，其特征在于：其分子式为Mn3InC1+x，由锰、锡、碳三种元素组成，其原子比基本为Mn:In:C＝3:1:(1+x),其中(x＝-0.2～0.1),其晶体结构为钙钛矿结构。

2.根据权利要求1所述一种近零膨胀薄膜材料，其特征在于：由所述锰、锡、碳三种元素组成的为三元化合物(Mn3InCx)薄膜材料，其在220K-330K的温度区间，晶格常数随着温度升高变化很小，为负近零膨胀薄膜材料。

3.根据权利要求1所述一种近零膨胀薄膜材料，其特征在于：近零膨胀现象为各向同性，温度区间达到110K。

4.根据权利要求1-3所述一种近零膨胀薄膜材料的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：(1)按预定化学计量比(根据不同元素的溅射率不同，靶样品的成分摩尔比约为Mn:In:C＝1:1:5)称取一定量的锰粉、铟粉和石墨粉，粉末纯度均为3N或以上；

(2)将三种粉末在球磨机中研磨1小时以上，充分混合均匀；

(3)将混合均匀的粉末取适量，使用适当尺寸的不锈钢模具和压片机将粉末压制成圆饼状，压力为20MPa；

(4)将压制成圆饼状的样品装入真空石英管式炉中，抽真空达到10-4Pa时，加热至500℃，保温8小时，然后随炉冷却；

(5)将制备好的圆饼状样品作为靶材，应用磁控溅射法制备薄膜；其中，溅射主要工艺参数为：基片温度573K，氩气溅射气压0.5帕，直流溅射功率100W，溅射时间根据对薄膜厚度要求来设定；

(6)将镀好的薄膜进行热处理，应用真空管式炉(真空度在10-4Pa在上)在600℃保温4小时，随炉冷却；

(7)测量薄膜的厚度，电阻率，热膨胀系数。