1.一种铌合金表面MoSi2涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：(1)对铌合金进行表面抛光，并清洗、烘干；

(2)通过磁控溅射在步骤(1)获得的铌合金上溅射Mo-W薄层；

(3)将含硅合金粉末进行球磨；

(4)将步骤(3)获得的含硅合金粉末预置在步骤(2)获得的溅射Mo-W薄层的铌合金上；

(5)采用激光器对步骤(4)获得的预置合金粉末的铌合金进行激光扫描，在铌合金表面制成MoSi2涂层。

2.根据权利要求1所述的一种铌合金表面MoSi2涂层的制备方法，其特征在于，步骤(3)所述含硅合金粉末的成分为按质量百分比由以下成分组成Mo 52～63％，Nb 3.5～14％，Al 

2.0～5.5％，W 3.0～6.0％，余量为Si和各杂质元素，杂质元素的总量小于0.5％。

3.根据权利要求2所述的一种铌合金表面MoSi2涂层的制备方法，其特征在于，所述Mo、Nb、Al、W和Si均以粉末的形式加入，各元素粉末纯度大于99.5％，颗粒直径小于4.5μm。

4.根据权利要求1所述的一种铌合金表面MoSi2涂层的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述溅射Mo-W薄层，其元素按原子百分比Mo 80～90at.％，余量为W，使用高纯氩气作为溅射气体，氩气气流量为25～35sccm，氩气溅射气压为0.15～0.35Pa。

5.根据权利要求1所述的一种铌合金表面MoSi2涂层的制备方法，其特征在于，步骤(4)所述预置，为采用酒精或丙酮将含硅合金粉末粘附在溅射Mo-W薄层的铌合金表面，预置含硅合金粉末厚度为1.0～1.5mm，并置于110～120℃加热炉中，干燥15～20min。

6.根据权利要求1所述的一种铌合金表面MoSi2涂层的制备方法，其特征在于，步骤(2)所述的Mo-W薄层的厚度为100～200μm。

7.根据权利要求1所述的一种铌合金表面MoSi2涂层的制备方法，其特征在于，步骤(3)所述球磨的时间为18～24h，球磨转速为300～400r/min。

8.根据权利要求1所述的一种铌合金表面MoSi2涂层的制备方法，其特征在于，步骤(5)中所述激光扫描的搭接率为40～60％，激光功率2.3～2.7kW，扫描速度5～9mm/s。