1.一种SiO2微弧氧化复合涂层的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

(1)微弧氧化膜制备：将阀金属工件表面打磨至1200目，并在丙酮或酒精超声波清洗后室温风干；以阀金属工件为阳极，不锈钢槽作为阴极，配置电解液，采用交流恒压模式或者恒流模式对金属工件进行微弧氧化处理，设定电参数；处理结束后用蒸馏水清洗阀金属工件表面残余的电解液，室温风干，制得微弧氧化膜；

(2)SiO2颗粒预封孔：利用无水乙醇将SiO2颗粒分散，制成悬浮液，并添加表面活性剂；

将步骤(1)所制备得到的微弧氧化膜的阀金属工件置于配好的SiO2颗粒溶液中，采用超声波辅助，加速SiO2颗粒进入微弧氧化膜的放电孔洞内，以达到封孔的效果；

(3)激光重熔处理：经步骤(2)处理后再利用激光设备产生的高能激光束对阀金属工件表面微弧氧化膜进行激光扫描处理，使纳米SiO2颗粒熔融后填充在放电孔洞内，并与氧化膜结合或者掺杂在氧化膜内，提高微弧氧化涂层的致密性，制得SiO2微弧氧化复合涂层。

2.根据权利要求1所述的SiO2微弧氧化复合涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)的电解液成分包括：0.5～4g/L氢氧化钠、0.5～5g/L氟化钠、1～3g/L六偏磷酸钠、10～15g/L磷酸三钠、10～15ml/L硅酸钠的一种或其中几种。

3.根据权利要求1所述的SiO2微弧氧化复合涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)的电参数为：正电压为400～480V，负电压为0～150V，正向电流密度为5～30A/dm2，负向电流密度为0～50A/dm2，正占空比为8～30％，负占空比0～30％，频率为300～700Hz。

4.根据权利要求1所述的SiO2微弧氧化复合涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤(2)SiO2颗粒的悬浮液浓度为0.5～3％；所述表面活性剂型号为SP-2分散剂，其浓度为0.5～

2％；超声波功率为300～500KHz。

5.根据权利要求1所述的SiO2微弧氧化复合涂层的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)，具体为：激光功率为60～300W，激光扫描速度为80～300mm/min，搭接率为20～80％。