1.一种激光熔覆层的制备方法，其特征在于，包括如下步骤：(1)配制冶炼合金，所述的合金包括如下组分：

10.0wt％～15.0wt％的Cr；

1.20wt％～1.50wt％的Ni；

1.10wt％～1.40wr％的B；

0.70wt％～1.20wt％的Mo；

0.80wt％～1.20wt％的Si；

0.10wt％～0.20wt％的C；

余量为Fe和不可避免的杂质；

所述的合金的粒度为‑50‑150；

(2)采用高功率脉冲激光优化工艺制备打底层，激光工艺参数为：激光功率2.5～3kW，扫描速度7～10mm/s，载气流量180～200L/min，送粉速率为90～100rad/min，脉宽8～10ms，占空比5:1～10:1，制备的打底层厚度为0.4～1.2mm；

(3)调制脉冲激光输出波形如下：脉冲激光波形为近梯形，激光熔覆功率为1.5～3.5kW，扫描速度为6～10mm/s，送粉速率为80～100rad/min，载气流量120～200L/min，光束为圆形光斑，光斑直径为3mm，离焦量为3mm，激光熔覆保护气体为氮气，脉宽为5～15ms，占空比为1:1～10:1；

(4)采用激光重熔技术，对涂层表面进行激光重熔处理，参数为：激光功率1.2～1.5kW，扫描速度为3～5mm/s，载气流量80～120L/min，脉宽8～10ms，占空比7:1～10:1，离焦量为

12～15mm，光斑直径为8～10mm。