1.一种利用冷冻干燥技术制备界面薄层多孔膜的方法，其特征在于，在基底表面均匀涂覆液膜，浸入液氮中进行冷冻，再放入冷冻干燥机中进行冷冻干燥；

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在浸入液氮的过程中，所述液膜表面与液氮的液面垂直，浸入的速度为1mm s ；

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所述液膜的浓度为4mg mL ；

配制所述液膜的溶质选自质量比1:1的P3HT和PCBM；

配制所述液膜的溶剂选自体积比为9:1的二氯苯和氯仿。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述液膜的厚度为0.2μm～4μm。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，采用旋涂法在基底表面均匀涂覆液膜。

4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述旋涂速度为200～4000rpm，旋涂时间为3s～20s。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述旋涂速度为800～1500rpm，旋涂时间为4s～8s。

6.根据权利要求1或2所述的方法，其特征在于，所述冷冻干燥时间为4～20个小时。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述冷冻干燥时间为10～14个小时。

8.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述冷冻干燥时间为4～20个小时。

9.权利要求1～8任意一项所述方法制备而成的界面薄层多孔膜。

10.根据权利要求9所述的界面薄层多孔膜，其特征在于，所述界面薄层多孔膜为各向异性的多孔薄膜。

11.根据权利要求10所述的界面薄层多孔膜，其特征在于，所述界面薄层多孔膜为孔径

0.5μm～6μm的各向异性的多孔薄膜。

12.权利要求9～11任意一项所述界面薄层多孔膜在制备仿生界面材料、光伏材料和/或微流控材料中的应用。