1.一种用于镁合金微弧氧化的前处理液，其特征在于：所述前处理液为浓度为0.03～

0.1mol/L的硝酸钕水溶液。

2.根据权利要求1所述的用于镁合金微弧氧化的前处理液，其特征在于：所述前处理溶液的浓度为0.06～0.08mol/L。

3.一种镁合金微弧氧化前处理方法，其特征在于：所述方法包括将经打磨的洁净的镁合金在如权利要求1或2所述的用于镁合金微弧氧化的前处理液中浸泡10～40分钟，使得镁合金表面生成钕氧化膜层。

4.一种镁合金微弧氧化方法，其特征在于：所述方法包括如下步骤：在装有电解液的电解槽内，将含有稀土氧化层的镁合金作为阳极，不锈钢作为阴极，放入到电解液中，在不断搅拌条件下进行微弧氧化，使得镁合金表面生成陶瓷膜层；所述含有稀土氧化层的镁合金是由权利要求3所述的镁合金微弧氧化前处理方法制得。

5.根据权利要求4所述的镁合金微弧氧化方法，其特征在于，所述电解液是通过如下方法制得：将Na2SiO3，KOH，Al2O3和NaF加入去离子水中经搅拌充分溶解并分散。

6.根据权利要求4所述的镁合金微弧氧化方法，其特征在于，所述加入的Na2SiO3，KOH，Al2O3和NaF的质量浓度分别为Na2SiO3 8～12g/L，KOH 4～6g/L，Al2O3 1.6～2.4g/L，NaF 

0.4～0.6g/L。

7.根据权利要求4所述的镁合金微弧氧化方法，其特征在于，所述微弧氧化所用装置为

20kW直流脉冲微弧氧化装置，所述微弧氧化是在以下参数条件下进行：微弧氧化控制电压为350V的恒压模式，占空比为3～5％，脉冲频率为350～450Hz，微弧氧化时间为15～30min。

8.根据权利要求7所述的镁合金微弧氧化方法，其特征在于，所述占空比为4％，脉冲频率为400Hz，微弧氧化时间为20min。