1.一种光响应形状记忆高分子材料，其特征在于，所述光响应形状记忆高分子材料是将卟啉负载到热致形状记忆聚合物材料上得到的；

所述光响应形状记忆高分子材料由包裹卟啉的胶束交联制备而成；

所述光响应形状记忆高分子材料，按重量份数计，含有如下原料：含疏水性基团的烯类单体20-40份、含亲水性基团的烯类单体1-5份、含反应性基团的烯类单体1-5份、自由基引发剂0.5-1份、交联剂1-5份、卟啉；其中卟啉为含疏水性基团的烯类单体、含亲水性基团的烯类单体、含反应性基团的烯类单体、自由基引发剂、交联剂总重量的0.03％-0.3％；

所述光响应形状记忆高分子材料的制备方法包括，通过自由基聚合制备两亲性聚合物材料，并用溶液自组装方法将卟啉裹入到胶束内部，然后将胶束交联，制备该光响应性形状记忆材料；

所述卟啉为四苯基卟啉。

2.根据权利要求1所述的光响应形状记忆高分子材料，其特征在于，所述含疏水性基团的烯类单体为丙烯酸甲酯、丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸甲酯，甲基丙烯酸乙酯中的一种或多种；所述含亲水性基团的烯类单体为丙烯酸，甲基丙烯酸，丙烯酰胺中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的光响应形状记忆高分子材料，其特征在于，所述含反应性基团的烯类单体为双丙酮丙烯酰胺、N-乙烯基吡咯烷酮、丙烯酸羟乙酯、丙烯酸羟丙酯中的一种或多种。

4.权利要求1所述的光响应形状记忆高分子材料的制备方法，其特征在于，所述方法包括，通过自由基聚合制备两亲性聚合物材料，并用溶液自组装方法将卟啉裹入到胶束内部，然后将胶束交联，制备该光响应性形状记忆材料。

5.根据权利要求4所述的方法，包括以下步骤：

(1)将含疏水性基团的烯类单体、含亲水性基团的烯类单体、含反应性基团的烯类单体、有机溶剂、自由基引发剂投入容器中进行反应，得到两亲性聚合物；

(2)取一定量步骤(1)所得聚合物及卟啉共溶于溶剂中，分散溶解，然后将水缓慢滴入上述溶液中，搅拌滴加，待滴加结束之后，再挥发溶剂制备包裹卟啉的胶束乳液；

(3)在步骤(2)所得胶束乳液中加入交联剂，混合分散均匀后干燥成膜。

6.根据权利要求5所述的方法，其特征在于，所述步骤(3)替换成：在步骤(2)所得含卟啉胶束的水溶液中加入交联剂，然后加入一定量的触变剂，搅拌混合均匀，注射成设计的形状，干燥固定形状。

7.一种医用材料，其特征在于，所述医用材料含有权利要求1所述的光响应形状记忆高分子材料。

8.权利要求1～3任一所述的光响应形状记忆高分子材料在制备医药器件方面的应用。