1.一种等离子体护理装置，其特征在于，所述等离子体护理装置包括：梳齿组件、介质阻挡放电结构、自清洁组件；所述介质阻挡放电结构呈平板状；所述介质阻挡放电结构包括：地电极、介质阻挡层、高压电极；

所述梳齿组件包括基板和多个梳齿；所述基板的第一板面、第二板面间设置有第一通孔；所述第一通孔至少部分容纳等离子体发生器；所述地电极朝向所述第一通孔，所述地电极和所述第一板面朝向第一方向；所述多个梳齿排列在所述基板的第一板面上；所述梳齿向所述第一方向延伸；

所述自清洁组件包括滤筛板和设置在滤筛板上的至少两个定位件，所述定位件和所述基板的第二板面弹性连接，所述定位件穿过所述基板上的定位孔；

所述滤筛板上设置有第二通孔和多个滤筛孔；所述多个滤筛孔的位置和所述多个梳齿的位置对应；所述梳齿穿设于对应的滤筛孔；在沿所述第一方向按压所述定位件的状态下，所述滤筛板向所述梳齿的齿端运动。

2.根据权利要求1所述的等离子体护理装置，其特征在于，所述第二通孔的形状和所述第一通孔的形状相同；所述多个滤筛孔环绕所述第二通孔分布。

3.根据权利要求1所述的等离子体护理装置，其特征在于，所述梳齿的长度大于所述滤筛板的厚度。

4.根据权利要求1所述的等离子体护理装置，其特征在于，所述滤筛板的形状和所述基板的轮廓形状一致。

5.根据权利要求1所述的等离子体护理装置，其特征在于，所述定位件的末段和所述基板的第二板面通过第一弹簧弹性连接；所述第一弹簧的第一端和基板的第二板面固定，所述第一弹簧的第二端和所述定位件的末段固定；

在所述第一弹簧恢复自由状态时，所述滤筛板在弹性作用力下沿第二方向向所述基板的第一板面运动；所述第二方向和所述第一方向相反。

6.一种等离子体护理梳，其特征在于，所述等离子体护理梳包括权利要求1至5中任一项所述的等离子体护理装置。