1.一种基于球阀的遮盖式表面梯度薄膜制备装置，其特征在于：包括真空腔室以及设置在真空腔室内的基质和蒸发源结构，所述蒸发源结构位于所述基质的上方且通过固定机构悬置在真空腔室内；

所述蒸发源结构包括坩埚蒸发装置、源材、球阀通量控制机构、元素扩散矫正通道和正电位电极，所述源材设置在所述坩埚蒸发装置内，所述坩埚蒸发装置的开口朝向基质的中心方向布置，所述球阀通量控制机构包括步进电机、球阀外壳、设置在球阀外壳内的中空挡环和用于中空挡环转动的挡环转轴，所述球阀外壳的上下两端分别与坩埚蒸发装置的开口、元素扩散矫正通道的上端固定连接，所述元素扩散矫正通道朝向基质的中心方向布置，所述球阀外壳分别与坩埚蒸发装置、元素扩散矫正通道连通，所述挡环转轴可转动的安装在球阀外壳上且穿过球阀外壳的中心，所述挡环转轴与坩埚蒸发装置的中轴线垂直，所述中空挡环为碗型且其开口端固定在所述挡环转轴上，所述步进电机通过齿轮减速机构与所述挡环转轴连接；

所述坩埚蒸发装置、球阀外壳、中空挡环与元素扩散矫正通道均同轴设置；所述坩埚蒸发装置与所述正电位电极连接，所述基质与负电位电极连接，所述基质的底部上设有用于基质上的镀膜进行退火晶化的加热装置；

所述蒸发源结构设置有四套，两套一组，前后各一组，每组的两套蒸发源结构左右对称布置；四套蒸发源通过固定机构互成一个固定角度组成蒸发源结构并刚性固定在真空腔室上部，基质处于真空腔室下部，正对蒸发源结构。