1.一种超薄多孔Co纳米片的制备方法，其特征在于：将氯化钴水溶液与六氰钴酸钾水溶液混合均匀，静置后得到氰胶，然后加入硼氢化钠水溶液，在室温至80℃下搅拌反应1～

24小时，离心分离、洗涤、真空干燥，得到超薄多孔Co纳米片。

2.根据权利要求1所述的超薄多孔Co纳米片的制备方法，其特征在于：所述氯化钴水溶液中氯化钴的浓度为0.9～1mol/L，所述六氰钴酸钾水溶液中六氰钴酸钾的浓度为0.4～

0.5mol/L，氯化钴与六氰钴酸钾的摩尔比为1:0.4～0.5。

3.根据权利要求1或2所述的超薄多孔Co纳米片的制备方法，其特征在于：将氯化钴水溶液与六氰钴酸钾水溶液混合均匀，在25～40℃下静置6～12小时，得到氰胶。

4.根据权利要求1所述的超薄多孔Co纳米片的制备方法，其特征在于：所述氯化钴与硼氢化钠的摩尔比为1:350～700。

5.根据权利要求1所述的超薄多孔Co纳米片的制备方法，其特征在于：在60～70℃下搅拌反应3～6小时。