1.一种具有高硬度、高抗氧化性能的AlCrN涂层，其特征在于AlCrN涂层与基体之间有一层10 300 nm厚的纯Cr金属层和10 300 nm的CrN层，以提高涂层与基体之间的结合力；

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AlCrN涂层总厚度为2 10 μm。

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2.根据权利要求1所述的涂层，其特征在于：AlCrN层中Al含量为25 40 at.%, Cr含量~为15 25 at.%, N含量为45 50 at.%；其中Al/(Al+Cr)= 0.5 0.75。

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3.根据权利要求1所述的AlCrN涂层，其特征在于：所述AlCrN涂层为面心立方结构的（Al，Cr）N相，衍射峰位于fcc-CrN和fcc-AlN衍射峰的中间，但离fcc-AlN衍射峰更近一些。

4.根据权利要求1所述的AlCrN涂层的制备工艺，其特征在于：采用国产AIP-650型电弧离子镀膜仪在高速钢和硬质合金上沉积具有高硬度、高抗氧化性能的AlCrN涂层，硬度高达

30 40 GPa。

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5.按照权利要求2所述的AlCrN涂层的制备工艺，其特征在于：基体材料经过除油和干燥预处理后，放在可同时自转和公转的转架上，公转速度为5 40 r/min，靶基距约为150 ~mm。

6.按照权利要求2所述的AlCrN涂层的制备工艺，其特征在于：采用机械泵和分子泵抽真空；当真空室气压优于1×10-3 Pa时，打开加热系统将炉腔加热至200 500 ºC；随后，开启~Ar气流量阀，气流量为50 200 sccm，调整节流阀使真空室压强为0.1 2 Pa，基片加-600~ ~ ~

1000 V负偏压，辉光清洗10 20 min；开启4个纯Cr靶，靶材电流均为50 150 A，对基体进行~ ~轰击清洗5 30 min；降低偏压至-10 100 V，调节真空压强，沉积纯Cr金属层约5 20 min；通~ ~ ~入N2沉积5~20 min，获得CrN过渡层。

7.按照权利要求2所述的AlCrN涂层的制备工艺，其特征在于：沉积AlCrN涂层时，N2和Ar气流量分别为50~200 sccm，调整节流阀使真空室压强为0.3~2 Pa，控制N2/Ar比在0.5~3之间；同时开启4个纯Al靶和纯Cr靶，电流均为50 150 A，沉积AlCrN涂层，时间为30 120 min。

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