1.一种有序超大孔间距氧化铝膜的制备方法，其特征在于：包括以下步骤：步骤一：制备抛光铝片：用纯度大于等于99.999％的高纯铝片为阳极，在体积比为1：4的高氯酸和无水乙醇的混合液中进行电化学抛光，抛光电压为20V，抛光温度0℃，抛光时间为10min，得到抛光的铝片；

步骤二：制备氧化铝膜：用所述步骤一得到的抛光铝片为阳极，在柠檬酸电解液中进行阳极氧化，氧化电压560V，氧化温度为10℃，氧化时间为7h，形成带有铝基底的氧化铝膜；

步骤三：形成有序凹坑的铝片：在5wt％的铬酸和9wt％的磷酸的混合液中浸泡除去步骤二所形成的氧化铝膜，浸泡的温度为70℃，浸泡时间12h，形成超大孔间距的有序凹坑的铝片；

步骤四：制备有序超大孔间距氧化铝膜：将步骤三中得到的表面具有有序凹坑的铝片为阳极，在柠檬酸和乙醇的电解液中进行氧化，氧化电压600V，氧化温度为4℃，氧化时间为

100min，形成有序超大孔间距氧化铝膜。