1.一种SiO2/青蒿素抗菌纳米粒子的制备方法，其特征在于：使用纳米SiO2吸附青蒿素，制成抗菌纳米粒子，再结合等离子体协助处理，提高青蒿素在水中的溶解性，具备缓释效果，从而提高青蒿素的生物利用度，达到高效利用与长效抗菌的目的。

2.如权利要求1所述的一种SiO2/青蒿素抗菌纳米粒子的制备方法，其特征在于：将无水乙醇、去离子水和氨水混合，加热搅拌后，再逐滴加入TEOS，滴完后立即加入青蒿素晶体，维持温度继续加热搅拌；完成后真空干燥使溶剂蒸发；将得到的粉末收集、研磨、洗涤、干燥、研磨；最后采用等离子体协助处理，即可制成SiO2/青蒿素抗菌纳米粒子。

3.如权利要求2所述的一种SiO2/青蒿素抗菌纳米粒子的制备方法，其特征在于：所述无水乙醇、去离子水和氨水的体积比为：20：5：1；所述加热搅拌是指采用加热式磁力搅拌器，

300rmp的搅拌速率下，60℃搅拌20min。

4.如权利要求2所述的一种SiO2/青蒿素抗菌纳米粒子的制备方法，其特征在于：所述TEOS与氨水的体积比为1：1；所述正硅酸乙酯(TEOS)的加入采取逐滴滴加法，并且滴加速度为2.0mL/2min。

5.如权利要求2所述的一种SiO2/青蒿素抗菌纳米粒子的制备方法，其特征在于：所述青蒿素晶体与去离子水的质量比为5:1。

6.如权利要求2所述的一种SiO2/青蒿素抗菌纳米粒子的制备方法，其特征在于：所述维持温度继续加热搅拌指采用加热式磁力搅拌器，300rmp的搅拌速率下，60℃搅拌60min。

7.如权利要求2所述的一种SiO2/青蒿素抗菌纳米粒子的制备方法，其特征在于，所述真空干燥使溶剂蒸发指：放于60℃的烘箱中，真空干燥48h，使溶剂蒸发；所述粉末的洗涤要使用无水乙醇洗涤1次，去离子水洗涤2次，再用无水乙醇洗涤1次；第一步无水乙醇洗涤是为了去除残存的TEOS，第二步无水乙醇洗涤是为了去除沉淀中的水分，使溶液表面张力降低，减轻粉末在干燥过程中的聚集。

8.如权利要求2所述的一种SiO2/青蒿素抗菌纳米粒子的制备方法，其特征在于，所述等离子体协助处理条件为：功率800W，时间2min。

9.如权利要求2所述的一种SiO2/青蒿素抗菌纳米粒子的制备方法，其特征在于：氨水的浓度为25wt％。

10.如权利要求1-9任一所述方法制备的SiO2/青蒿素抗菌纳米粒子在食品抗菌防腐领域的用途。