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专利号: 2015109833161
申请人: 济南大学
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
更新日期:2025-10-10
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种铜铬电触头材料,其特征在于,一种电触头材料,其特征在于,由括重量比为

0.2-3.0wt.%镀铜石墨烯和97.0-99.8wt.%铜合金组成,铜合金的重量成分为10-30wt.%的铬、0.2-2.0wt.%的X、余量为铜,X选自锑、钨、铋、碲中一种或几种。

2.根据权利要求1所述的一种铜铬电触头材料,其特征在于,石墨烯为N层,N为1-10。

3.一种权利要求1所述铜铬电触头材料的制备方法,其特征在于包括以下步骤:(1)采用直流磁控溅射法将金属铜沉积在石墨烯表面,制成镀铜石墨烯;

(2)铜合金采用雾化法制成200-300目的铜合金粉末;

(3)镀铜石墨烯和铜合金装入球磨机混粉,制成镀铜石墨烯和铜合金均匀混合的粉末;

(4)将步骤(3)混合后的粉末放入模具中进行致密化处理;

(5)真空电弧熔炼,制成石墨烯增强铜基的电触头材料。

4.根据权利要求3所述的一种铜铬电触头材料的制备方法,其特征在于,所述步骤(1)-3 -3中直流磁控溅射沉积设备的具体工艺为:真空度达到0.1*10 -1.0*10 Pa时,通入高纯氩气,真空室气压0.5-1.2Pa,溅射功率100-150W,沉积时间为5-30min,优选10-30min。

5.根据权利要求3所述的一种铜铬电触头材料的制备方法,其特征在于,所述步骤(3)中球磨机工作状态为:转速100-250r/min,球磨15-20分钟,停止5分钟,顺时针、逆时针交替运行,混粉时间为2-6小时。

6.根据权利要求3所述的一种铜铬电触头材料的制备方法,其特征在于,所述步骤(5)中熔炼工艺:真空度1.0*10-3 -3.0*10-3Pa,工作气体为氩气,工作气压为0.01-0.1Pa,熔炼时间1-2分钟。