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专利号: 2014107807295
申请人: 衢州学院
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 磨削;抛光
更新日期:2024-10-09
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种梯形微槽抛光薄膜的制造方法,其特征在于包括以下步骤:

1)配置:配置不含固化剂、湿润剂、去泡剂的抛光薄膜原料;

2)混合:将完成步骤1)的抛光薄膜原料输入球磨机混合;

3)制浆:将完成步骤2)的抛光薄膜混料输入搅拌机,同时添加固化剂、湿润剂、去泡剂,并不断搅拌制浆;

4)涂布:将完成步骤3)的抛光薄膜浆料涂布在薄膜基底层上;

5)滚压:将完成步骤4)的薄膜基底层的浆料通过雕刻微米级突出正棱台的滚压轮滚压,形成抛光薄膜;

6)干燥:将完成步骤5)的抛光薄膜,采用50-80℃的热风干燥;

7)固化:将完成步骤6)的抛光薄膜,送入100-110℃恒温箱固化48小时;

8)裁剪:将完成步骤6)的抛光薄膜裁剪成型,包装后进入仓库。

2.根据权利要求1所述的梯形微槽抛光薄膜的制造方法,其特征在于所述的步骤1)中不含固化剂、湿润剂、去泡剂的抛光薄膜原料包括磨粒、可溶性结合剂。

3.根据权利要求2所述的梯形微槽抛光薄膜的制造方法,其特征在于所述的磨粒包括二氧化硅微粉和二氧化铈微粉,质量比为2-3:1,二氧化硅微粉粒径均值为20-100纳米,二氧化铈微粉粒径均值为二氧化硅微粉粒径均值的1/2-1/5。

4.根据权利要求1所述的梯形微槽抛光薄膜的制造方法,其特征在于所述的步骤2)球磨机混合48小时。

5.根据权利要求1所述的梯形微槽抛光薄膜的制造方法,其特征在于所述的步骤4)的薄膜基底层缠绕在转筒架上。

6.根据权利要求1所述的梯形微槽抛光薄膜的制造方法,其特征在于所述的步骤5)的滚压轮表面轴向及径向都均布雕刻了微米级突出正棱台。

7.根据权利要求1所述的梯形微槽抛光薄膜的制造方法,其特征在于所述的步骤5)的滚压轮表面轴向及径向相邻的微米级突出正棱台距离等于正棱台底面的宽度。

8.根据权利要求1所述的梯形微槽抛光薄膜的制造方法,其特征在于所述的步骤5)的滚压轮正下方设有惰轮,滚压轮和惰轮的最小间距为抛光薄膜厚度。