欢迎来到利索能及~ 联系电话:18621327849
利索能及
我要发布
收藏
专利号: 2014107806771
申请人: 衢州学院
专利类型:发明专利
专利状态:已下证
专利领域: 磨削;抛光
更新日期:2024-10-09
缴费截止日期: 暂无
联系人

摘要:

权利要求书:

1.一种可溶性自修整抛光薄膜,其特征在于包括主磨粒层、亚磨粒层、薄膜基底层,所述的主磨粒层、亚磨粒层都包括磨粒、可溶性结合剂,所述的薄膜基底层与亚磨粒层的结合面设有微槽,亚磨粒层与主磨粒层的结合面设有微槽;所述的主磨粒层、亚磨粒层厚度比例为3:2。

2.根据权利要求1所述的可溶性自修整抛光薄膜,其特征在于所述的主磨粒层层、亚磨粒层的磨粒包括二氧化硅微粉、二氧化铈微粉;所述的主磨粒层、亚磨粒层的可溶性结合剂包括固含量为30%的聚酯树脂胶、固含量为20%的酯化淀粉。

3.根据权利要求2所述的可溶性自修整抛光薄膜,其特征在于所述的主磨粒层的二氧化硅微粉、二氧化铈微粉、固含量为30%的聚酯树脂胶、固含量为20%的酯化淀粉比例为:

2-3:1:1:2-3。

4.根据权利要求2所述的可溶性自修整抛光薄膜,其特征在于所述的亚磨粒层的二氧化硅微粉、二氧化铈微粉、固含量为30%的聚酯树脂胶、固含量为20%的酯化淀粉比例为:

2-3:1:2-3:2-3。

5.根据权利要求2、3、4所述的任一可溶性自修整抛光薄膜,其特征在于所述的二氧化硅微粉粒径均值为20-100纳米,二氧化铈微粉粒径均值为二氧化硅微粉粒径均值的

1/2-1/5。

6.根据权利要求1所述的可溶性自修整抛光薄膜,其特征在于所述的薄膜基底层为聚酯树脂胶。

7.一种如权利要求1所述的可溶性自修整抛光薄膜的抛光方法,其特征在于抛光过程中使用了溶剂。

8.根据权利要求7所述的可溶性自修整抛光薄膜的抛光方法,其特征在于所述的溶剂为乙醇水溶液。