1.一种研磨材料，其特征在于，所述研磨材料包括基体和包覆层，所述基体为氧化铝•稀土氧化物固溶体，所述包覆层为二氧化硅。

2.根据权利要求1所述的研磨材料，其特征在于，所述氧化铝•稀土氧化物固溶体中稀土氧化物选自氧化镧、氧化铈、氧化钕、氧化铕或氧化镨中的一种或几种；

以基体的总量为基准，所述稀土氧化物的重量百分含量为10-20wt%。

3.根据权利要求1所述的研磨材料，其特征在于，以研磨材料的总量为基准，所述基体的重量百分含量为75-85wt%，所述包覆层的重量百分含量为15-25wt%。

4.根据权利要求1所述的研磨材料，其特征在于，所述研磨材料的平均粒径为

300-600nm，粒径分布为100-1000nm。

5.根据权利要求1所述的研磨材料，其特征在于，所述包覆层的厚度为10-30nm。

6.一种研磨材料的制备方法，其特征在于，包括：a、将含有铝源、稀土源的物质于碱性条件下发生沉淀反应制备基体前躯体； b、在步骤a所得基体前躯体的表面包覆硅源；

c、将步骤b所得物质烧结，得基体为氧化铝•稀土氧化物固溶体、包覆层为二氧化硅的研磨材料；

所述铝源选自可溶有机铝盐、无机铝盐和铝酸盐中的一种或几种；

所述稀土源为镧的硝酸盐、铈的硝酸盐、钕的硝酸盐、铕的硝酸盐或镨的硝酸盐中的一种或几种；

所述硅源选自硅酸和/或二甲基硅油。

7.根据权利要求6所述的研磨材料的制备方法，其特征在于，所述铝源选自铝酸钠、偏铝酸钾、异丙醇铝、硝酸铝、氯化铝或硫酸铝中的一种或几种。

8.根据权利要求6所述的研磨材料的制备方法，其特征在于，所述碱性条件的pH=8-10；所述沉淀反应的温度为40-80℃；所述沉淀反应的搅拌速度为600-1000rpm。

9.根据权利要求6所述的研磨材料的制备方法，其特征在于，所述铝源中的铝元素与稀土源中的稀土元素的摩尔比为10-20。

10.根据权利要求6所述的研磨材料的制备方法，其特征在于，所述包覆包括红外加热喷雾包覆。

11.根据权利要求10所述的研磨材料的制备方法，其特征在于，所述红外加热喷雾包覆的喷雾速度为1-5L/min，所述红外加热喷雾包覆的硅源喷雾量为每千克基体前躯体

0.15-0.25L。

12.根据权利要求10所述的研磨材料的制备方法，其特征在于，所述红外加热喷雾包覆的加热温度为110-130℃。

13.根据权利要求6所述的研磨材料的制备方法，其特征在于，所述烧结的温度为

1000-1300℃，烧结的时间为3-6h。

14.根据权利要求13所述的研磨材料的制备方法，其特征在于，所述烧结的温度的升温速度为5-10℃/min。

15.一种研磨液组合物，包括研磨材料、碱性化合物、分散剂和螯合剂，其特征在于，所述研磨材料为权利要求1-5任意一项所述的研磨材料。