1.一种高陡度消偏振长波通光学滤光片，其特征在于：包括TA2O5膜层和SiO2膜层，TA2O5膜层和SiO2膜层数量均为若干，若干TA2O5膜层和SiO2膜层排列形成：下堆结构：TA2O5膜层、SiO2膜层、TA2O5膜层、0.8SiO2膜层依次排列；

若干中堆结构：0.8SiO2膜层、TA2O5膜层、SiO2膜层、TA2O5膜层、SiO2膜层、TA2O5膜层、SiO2膜层、TA2O5膜层、0.8SiO2膜层依次排列；

上堆结构：0.8SiO2膜层、TA2O5膜层依次排列。

2.根据权利要求1所述的一种高陡度消偏振长波通光学滤光片，其特征在于：中堆结构数量为六个。

3.根据权利要求2所述的一种高陡度消偏振长波通光学滤光片，其特征在于：TA2O5膜层用做高折射率膜层，SiO2膜层用做低折射率膜层。

4.根据权利要求3所述的一种高陡度消偏振长波通光学滤光片，其特征在于：TA2O5膜层、SiO2膜层均通过镀膜方式获得。

5.根据权利要求4所述的一种高陡度消偏振长波通光学滤光片，其特征在于：下堆结构的TA2O5膜层、SiO2膜层、TA2O5膜层、0.8SiO2膜层厚度依次为45nm、150.55nm、78.48nm、

70.64nm。

6.根据权利要求5所述的一种高陡度消偏振长波通光学滤光片，其特征在于：中堆结构的0.8SiO2膜层、TA2O5膜层、SiO2膜层、TA2O5膜层、SiO2膜层、TA2O5膜层、SiO2膜层、TA2O5膜层、

0.8SiO2膜层厚度依次为：70.64nm、44.94nm、109.55nm、92.4nm、94.89nm、56.58nm、

380.77nm、216.5nm、101.7nm。

7.根据权利要求6所述的一种高陡度消偏振长波通光学滤光片，其特征在于：上堆结构的0.8SiO2膜层、TA2O5膜层的厚度分别为：117.43nm、78.41nm。

8.根据权利要求7所述的一种高陡度消偏振长波通光学滤光片，其特征在于：镀膜时基板加温至260°，蒸发流速：TA2O5为300‑450mA，SiO2为70‑100mA。

9.根据权利要求8所述的一种高陡度消偏振长波通光学滤光片，其特征在于：镀膜时，工转速度为30r/min，真空度：TA2O5为2.0x10^(‑2)Pa，SiO2为9x10^(‑3)Pa。