1.一种电子元器件制造用清洗装置，其特征在于，包括：储存机构（100）以及清洗机构（200），所述储存机构（100）位于清洗机构（200）内，所述储存机构（100）包括箱体（101），所述箱体（101）上下端贯通，三面封闭结构，另外一面上设有密封门（102），所述箱体（101）内壁固定若干放置架（103），所述放置架（103）上设有夹持组件（105）,所述夹持组件（105）包括边框（106），所述边框（106）内安装有第一网片（107），所述边框（106）上端铰接第二网片（108），所述边框（106）一侧还设有固定螺栓（109），所述箱体（101）下端设有万向轮（113），所述清洗机构（200）包括外壳（201），所述外壳（201）罩在储存机构（100）外侧，所述外壳（201）上端设有水管（202）。

2.根据权利要求1所述的电子元器件制造用清洗装置，其特征在于，所述外壳（201）上端设有风机（203）。

3.根据权利要求1所述的电子元器件制造用清洗装置，其特征在于，所述外壳（201）上端内壁设有第三连接口（205），所述箱体（101）上端开口处设有第一连接口（111），所述第一连接口（111）以及第三连接口（205）均为圆台状，所述第一连接口（111）以及第三连接口（205）相适配。

4.根据权利要求3所述的电子元器件制造用清洗装置，其特征在于，所述外壳（201）下端设有第二连接口（112），所述第二连接口（112）为倒圆台状。

5.根据权利要求3或4所述的电子元器件制造用清洗装置，其特征在于，所述第一连接口（111）内设有分散板（114），所述分散板（114）表面等距设有若干通孔。

6.根据权利要求1所述的电子元器件制造用清洗装置，其特征在于，所述外壳（201）下端设有导向轨（204），所述箱体（101）下端的万向轮（113）位于导向轨（204）中。