1.一种用于内窥成像的近红外级联超透镜，其特征在于，包括：基底层；位于基底层上侧的第一层纳米柱层，所述第一层纳米柱层的纳米柱高度为840nm，纳米柱周期排列方式为四角晶格，即纳米柱的中心点按照正方形的形状排列，相邻纳米柱之间的距离相等，距离为

720nm，材料为硅；位于基底层下侧的第二层纳米柱层，所述第二层纳米柱层的纳米柱高度为820nm，纳米柱周期排列方式为四角晶格，相邻纳米柱之间的距离相等，距离为720nm，材料为硅。

2.根据权利要求1所述的近红外级联超透镜，其特征在于，所述基底层呈圆柱状，其中基底层半径为200微米，材料为二氧化硅。

3.根据权利要求1所述的近红外级联超透镜，其特征在于，所述超透镜的工作波长为

1410nm。

4.根据权利要求1所述的近红外级联超透镜，其特征在于，所述第一层纳米柱层的半径为95微米。

5.根据权利要求1所述的近红外级联超透镜，其特征在于，所述第二层纳米柱层的半径为165微米。