1.一种一体式多层高真空烤箱，包括：烤箱主体(1)、箱门(2)和箱门把手(3)，其特征在于，所述烤箱主体(1)内部一端设置有升降机构(4)，所述升降机构(4)侧面一端设置有可以调节层高的第一托盘机构(5)，所述烤箱主体(1)内部一端设置有第二托盘机构(6)。

2.根据权利要求1所述的一种一体式多层高真空烤箱，其特征在于，所述第一托盘机构(5)包括有设置在所述升降机构(4)侧面一端的升降框(51)，所述升降框(51)侧面一端滑动连接有托盘本体(52)，所述托盘本体(52)侧面一端设置有限位机构(53)。

3.根据权利要求2所述的一种一体式多层高真空烤箱，其特征在于，所述升降框(51)包括有设置在所述升降机构(4)侧面一端的升降框主体(511)，所述升降框主体(511)内部一端开设有滑槽(512)，所述升降框主体(511)侧面一端固接有连接块(513)，所述升降框主体(511)侧面一端固接有连接条(514)。

4.根据权利要求2所述的一种一体式多层高真空烤箱，其特征在于，所述托盘本体(52)包括有滑动连接在所述升降框(51)内部一端的第一支撑框(521)，所述第一支撑框(521)上方一端开设有限位孔(522)，所述第一支撑框(521)内部嵌设有第一滤网(523)，所述第一支撑框(521)侧面一端固接有第一把手(524)。

5.根据权利要求2所述的一种一体式多层高真空烤箱，其特征在于，所述限位机构(53)包括有设置在所述升降框(51)上方一端的转动块(531)，所述转动块(531)上方一端固接有指针(532)，所述转动块(531)下方固接有连接盘(533)，所述连接盘(533)下方一端固接有连接杆(534)，所述连接杆(534)下方一端固接有斜块(535)。

6.根据权利要求1所述的一种一体式多层高真空烤箱，其特征在于，所述第二托盘机构(6)内部一端设置有连接框(61)，所述连接框(61)下方一端固接有固定块(62)，所述固定块(62)下方一端设置有滚轮(63)，所述连接框(61)上方一端嵌设有第二支撑框(64)，所述第二支撑框(64)内部嵌设有第二滤网(65)，所述第二支撑框(64)上方一端固接有第二把手(66)。

7.根据权利要求1所述的一种一体式多层高真空烤箱，其特征在于，所述升降机构(4)包括有设置在所述烤箱主体(1)内部一端的螺纹杆(41)和限位杆(44)，所述螺纹杆(41)上方一端固接有转动盘(42)，所述转动盘(42)上方一端固接有转动把手(43)。