1.一种可均匀加热的4.6‑二羟基嘧啶生产装置，包括反应釜体(1)，其特征在于：所述反应釜体(1)的上方设置有釜盖(2)，且釜盖(2)与反应釜体(1)通过螺钉连接，所述反应釜体(1)壳体的内部设置有预留腔(14)，所述反应釜体(1)的一侧设置有进水法兰(9)和出水法兰(10)，且进水法兰(9)和出水法兰(10)与反应釜体(1)均连接为一体，所述进水法兰(9)和出水法兰(10)分别设置在反应釜体(1)下端和上端，且进水法兰(9)和出水法兰(10)与预留腔(14)连通设置，所述釜盖(2)的上端设置有加料管(3)，且加料管(3)与釜盖(2)连接为一体，所述釜盖(2)中心处的上方设置有减速电机(7)，且减速电机(7)与釜盖(2)通过螺钉连接，所述反应釜体(1)的内部设置有搅拌桨(12)，且搅拌桨(12)的一端与减速电机(7)的输出端连接。

2.根据权利要求1所述的一种可均匀加热的4.6‑二羟基嘧啶生产装置，其特征在于：所述预留腔(14)的内壁上设置有导热层(15)，且导热层(15)与反应釜体(1)设置为一体，所述反应釜体(1)的外部设置有隔热层(16)，且隔热层(16)与反应釜体(1)设置为一体。

3.根据权利要求1所述的一种可均匀加热的4.6‑二羟基嘧啶生产装置，其特征在于：所述反应釜体(1)的一侧设置有防爆玻璃(8)，且防爆玻璃(8)与反应釜体(1)设置为一体。

4.根据权利要求3所述的一种可均匀加热的4.6‑二羟基嘧啶生产装置，其特征在于：所述防爆玻璃(8)的一侧设置有温度传感器(11)，且温度传感器(11)与反应釜体(1)连接为一体。

5.根据权利要求1所述的一种可均匀加热的4.6‑二羟基嘧啶生产装置，其特征在于：所述反应釜体(1)的底部设置有刮板(13)，且刮板(13)与反应釜体(1)的底部相贴合，所述刮板(13)设置在搅拌桨(12)的下方，且刮板(13)与搅拌桨(12)固定连接。

6.根据权利要求1所述的一种可均匀加热的4.6‑二羟基嘧啶生产装置，其特征在于：所述反应釜体(1)的外部设置有搬运架(6)，搬运架(6)设置有两个，且搬运架(6)与反应釜体(1)焊接为一体，两个所述搬运架(6)设置在反应釜体(1)的两侧。

7.根据权利要求1所述的一种可均匀加热的4.6‑二羟基嘧啶生产装置，其特征在于：所述反应釜体(1)下端中心处设置有卸料管(4)，且卸料管(4)与反应釜体(1)连接为一体，所述反应釜体(1)的下方设置有支撑腿(5)，支撑腿(5)设置有三个，且支撑腿(5)与反应釜体(1)固定连接。