1.具有防水密封装置的容器清洗设备，其特征在于，包括清洗壳、多个驱动轴以及多个密封模组，所述清洗壳具有多个壳口，所述驱动轴用于放置且清洗容器，所述驱动轴贯穿所述壳口且所述驱动轴与所述清洗壳呈装配布置，所述清洗壳具有清洗腔，容器置于所述清洗腔，各个所述密封模组与各个所述驱动轴呈一一对应布置，且所述密封模组与所述驱动轴呈装配布置；所述密封模组包括密封柱和密封圈，所述密封柱的下部与所述清洗壳呈对接布置，所述密封柱的上部朝上延伸布置，所述密封圈套设所述驱动轴，所述密封圈与所述密封柱上下装配布置，且所述密封圈与所述密封柱用于封盖密封所述壳口。

2.如权利要求1所述的具有防水密封装置的容器清洗设备，其特征在于，所述密封圈包括主圈环和套圈环，所述主圈环和所述套圈环呈一体成型布置，所述主圈环与所述驱动轴呈套固布置，所述套圈环与所述密封柱呈套固布置。

3.如权利要求2所述的具有防水密封装置的容器清洗设备，其特征在于，所述主圈环具有主圈面，所述主圈面呈环状布置，所述主圈面包围所述驱动轴布置；沿背离所述驱动轴的方向，所述主圈面呈逐渐朝下倾斜布置。

4.如权利要求2所述的具有防水密封装置的容器清洗设备，其特征在于，所述主圈环具有内圈面，所述内圈面呈环状布置，且所述内圈面环绕抵触所述驱动轴的外表面布置；所述主圈环呈弹性布置，所述内圈面抵压所述驱动轴的外表面。

5.如权利要求2所述的具有防水密封装置的容器清洗设备，其特征在于，所述密封柱呈硬质布置，所述套圈环呈弹性布置，且所述套圈环抵压所述密封柱的外表面。

6.如权利要求2所述的具有防水密封装置的容器清洗设备，其特征在于，所述密封柱设有至少一个柱定环，所述柱定环呈环状布置，所述驱动轴具有轴槽，所述轴槽朝内凹陷布置，所述轴槽呈环状布置，所述柱定环嵌设所述轴槽，且所述柱定环填充所述轴槽。

7.如权利要求1‑6任意一项所述的具有防水密封装置的容器清洗设备，其特征在于，所述清洗壳包括壳底板，所述密封柱与所述壳底板呈装配布置，所述壳底板具有回水口，所述壳底板的上方形成所述清洗腔，所述壳底板的下方形成水箱，所述水箱用于存储水源，所述回水口与所述水箱呈连通布置；沿背离所述回水口的方向，所述壳底板呈逐渐朝上倾斜布置，所述壳底板用于接收清洗作业后的水源且导向流至所述水箱。

8.如权利要求7所述的具有防水密封装置的容器清洗设备，其特征在于，所述壳底板具有多个导流槽，所述导流槽朝下凹陷布置，且沿背离所述回水口的方向，所述导流槽呈逐渐朝上倾斜布置；所述密封柱嵌设至所述导流槽，所述导流槽用于分流水源至所述回水口。

9.如权利要求8所述的具有防水密封装置的容器清洗设备，其特征在于，所述导流槽包括弧导部和两个直导部，所述弧导部的两端分别与两个所述直导部呈对接布置，所述弧导部沿背离所述回水口的方向呈拱起弧形布置，所述直导部沿朝向所述回水口的方向呈竖直延伸布置；所述弧导部的顶部形成弧导面，所述弧导面呈倾斜布置，且所述弧导面用于导向水源流动至所述回水口。

10.如权利要求7所述的具有防水密封装置的容器清洗设备，其特征在于，所述回水口呈长条状布置；所述壳底板具有回水腔，所述回水腔的顶部形成所述回水口，沿自上而下方向，所述回水腔的口径呈逐渐缩小布置。