1.一种用于纳米喷镀的工作台，包括工作台本体（1），其特征在于，所述工作台本体（1）的外表面上贯穿设置有调节组件（2），所述调节组件（2）包括开设在工作台本体（1）上端的第一圆槽（21），所述工作台本体（1）的下侧内壁上开设有第二圆槽（22），所述第一圆槽（21）的内部转动连接有挡盘（23），所述第二圆槽（22）的内部转动连接有随动杆（24）。

2.根据权利要求1所述的一种用于纳米喷镀的工作台，其特征在于，所述第一圆槽（21）的内壁上均匀的开设有卡槽（211），所述第一圆槽（21）的下侧内壁上贯穿开设有穿槽（212），所述第二圆槽（22）的内壁上开设有环槽（221）。

3.根据权利要求1所述的一种用于纳米喷镀的工作台，其特征在于，所述挡盘（23）的上端固定连接有把手（231），所述挡盘（23）的外表面上固定连接有卡块（232），所述挡盘（23）的下端固定连接有转轴（233），所述转轴（233）的下端固定连接有第一横板（234）。

4.根据权利要求3所述的一种用于纳米喷镀的工作台，其特征在于，所述卡块（232）与卡槽（211）相对应卡合，所述转轴（233）贯穿通过穿槽（212）的内部，所述第一横板（234）位于穿槽（212）的下方。

5.根据权利要求1所述的一种用于纳米喷镀的工作台，其特征在于，所述随动杆（24）的下端固定连接有转盘（241），所述随动杆（24）的上端固定连接有第一伸缩杆（242），所述第一伸缩杆（242）的上端固定连接有第二横板（243）。

6.根据权利要求5所述的一种用于纳米喷镀的工作台，其特征在于，所述转盘（241）转动连接在环槽（221）的内部，所述第二横板（243）与第一横板（234）的结构相对称，所述第二横板（243）的上端开设有T型槽（2431），所述第二横板（243）的上端滑动连接有第一夹板（2432）和第二夹板（2433）。

7.根据权利要求6所述的一种用于纳米喷镀的工作台，其特征在于，所述第一夹板（2432）的下端固定连接有第一T型块（24321），所述第一T型块（24321）的一侧固定连接有第二伸缩杆（24322）。

8.根据权利要求7所述的一种用于纳米喷镀的工作台，其特征在于，所述第一T型块（24321）与T型槽（2431）滑动连接，所述第二伸缩杆（24322）的一端与T型槽（2431）的一侧固定连接。

9.根据权利要求6所述的一种用于纳米喷镀的工作台，其特征在于，所述第二夹板（2433）的一侧均匀的固定连接有摩擦垫块（24331），所述第二夹板（2433）的下端固定连接有第二T型块（24332）。

10.根据权利要求9所述的一种用于纳米喷镀的工作台，其特征在于，所述第二T型块（24332）的一侧同样固定连接有第二伸缩杆（24322），所述第二T型块（24332）与T型槽（2431）滑动连接，所述第二T型块（24332）组的第二伸缩杆（24322）的一端与T型槽（2431）的另一侧固定连接。