1.一种用于沉淀二氧化硅的合成反应釜，包括支撑板(1)，其特征在于：所述支撑板(1)的上表面固定连接有多个连接杆(2)，多个所述连接杆(2)的顶端共同固定连接有反应圆釜(3)，所述支撑板(1)的上表面固定连接有调控箱(4)，所述调控箱(4)的内底壁固定连接有减速电机(5)，所述减速电机(5)的输出端通过联轴器固定连接有圆丝杆(6)，所述圆丝杆(6)的外表面螺纹连接有螺纹方板(7)，所述螺纹方板(7)的外表面固定连接有两个传动方板(8)，两个所述传动方板(8)相互远离的一端均贯穿调控箱(4)并延伸至调控箱(4)的外部，每个所述传动方板(8)的上表面均固定连接有竖形立柱(9)，每个所述竖形立柱(9)的顶端均固定连接有传动杆(10)，两个所述传动杆(10)的外表面共同固定连接有横板(11)，所述横板(11)的底面固定连接有两个圆形连杆(12)，两个所述圆形连杆(12)的底端共同固定连接有承载板(13)，所述承载板(13)的上表面固定连接有方箱(14)，所述方箱(14)的内底壁固定连接有驱动电机(15)，所述驱动电机(15)的输出端贯穿承载板(13)并固定连接有旋转板(16)，所述旋转板(16)的底面固定连接有两个搅拌辊(17)。

2.根据权利要求1所述的一种用于沉淀二氧化硅的合成反应釜，其特征在于：所述旋转板(16)的外表面固定连接有两个加固杆(18)，两个所述加固杆(18)的外表面均固定连接有刮料板(19)，且刮料板(19)的外表面与反应圆釜(3)的内壁相接触。

3.根据权利要求1所述的一种用于沉淀二氧化硅的合成反应釜，其特征在于：所述反应圆釜(3)的上方设置有盖板(20)，所述盖板(20)的上表面开设有与圆形连杆(12)相适配的圆通孔(21)，且盖板(20)位于方箱(14)与横板(11)之间。

4.根据权利要求1所述的一种用于沉淀二氧化硅的合成反应釜，其特征在于：所述反应圆釜(3)的底面固定连通有排料管(24)。

5.根据权利要求1所述的一种用于沉淀二氧化硅的合成反应釜，其特征在于：所述调控箱(4)的左右两侧面均开设有方口(25)，且方口(25)的大小与传动方板(8)的大小相匹配。

6.根据权利要求1所述的一种用于沉淀二氧化硅的合成反应釜，其特征在于：所述承载板(13)的底面固定连接有环形滑轨(22)，所述环形滑轨(22)的内部滑动连接有两个滑动块(23)，每个所述滑动块(23)的底面均与旋转板(16)的上表面固定连接。

7.根据权利要求1所述的一种用于沉淀二氧化硅的合成反应釜，其特征在于：所述调控箱(4)的背面固定连接有导向轨(26)，所述导向轨(26)的内部滑动连接有滑动L杆(27)，所述滑动L杆(27)的顶端固定连接有U形架(28)，且U形架(28)的外表面与两个传动杆(10)的外表面固定连接。