1.一种便于清洗维护的化工反应釜，其特征在于，包括：

反应釜壳体(1)，所述反应釜壳体(1)顶部设置有密封盖(3)，所述密封盖(3)上表面固定安装有电机(4)，所述电机(4)输出轴端固定连接有丝杆(5)，所述反应釜壳体(1)内固定连接有固定架(6)，所述丝杆(5)转动连接于固定架(6)上表面，所述丝杆(5)底部固定连接有搅拌叶片(7)，所述反应釜壳体(1)内设置有清洗组件(8)；

所述清洗组件(8)包括水泵(801)，所述水泵(801)固定安装于进水管(802)上表面，所述水泵(801)上连通有进水管(802)，所述丝杆(5)表面螺纹连接有连接块(809)，所述连接块(809)表面圆周阵列有连接板(808)，所述连接板(808)一侧固定连接有圆形架(804)，所述圆形架(804)表面圆周阵列有喷水孔(805)，所述反应釜壳体(1)内开设有滑槽(807)，所述滑槽(807)内滑动连接有滑块(806)，所述滑块(806)固定连接于圆形架(804)表面，所述圆形架(804)上连通有连通管(803)。

2.根据权利要求1所述的一种便于清洗维护的化工反应釜，其特征在于：所述圆形架(804)内设置有空腔，所述连通管(803)与水泵(801)出水口处连通。

3.根据权利要求1所述的一种便于清洗维护的化工反应釜，其特征在于：所述密封盖(3)上开设有进料口(10)，所述反应釜壳体(1)底部连通有排料管(12)，所述排料管(12)上设置有与排料管(12)连通的电磁阀(11)。

4.根据权利要求1所述的一种便于清洗维护的化工反应釜，其特征在于：所述反应釜壳体(1)底部呈漏斗型设置，所述反应釜壳体(1)底部对称设置有支撑腿(2)。

5.根据权利要求1所述的一种便于清洗维护的化工反应釜，其特征在于：所述搅拌叶片(7)与固定架(6)互不接触，所述搅拌叶片(7)表面开设有通孔(9)，所述搅拌叶片(7)底部呈弧形设置。

6.根据权利要求2所述的一种便于清洗维护的化工反应釜，其特征在于：所述圆形架(804)与反应釜壳体(1)内壁互不接触，所述连接板(808)呈倾斜设置，所述连接块(809)与圆形架(804)厚度相同。

7.根据权利要求1所述的一种便于清洗维护的化工反应釜，其特征在于：所述连通管(803)设置为橡胶管，所述进水管(802)与外部水源连通。