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专利号: 2024207635279
申请人: 上海廷溶化工有限公司
专利类型:实用新型
专利状态:已下证
更新日期:2025-06-11
缴费截止日期: 暂无
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摘要:

权利要求书:

1.一种反应料浆无塔真空冷却设备,包括箱体(1),所述箱体(1)边部设置有安装脚(2),设置于箱体(1)顶部的对接管道(3),与右端所述对接管道(3)相对接的回浆管(4),与中部所述对接管道(3)相对接的闪冷真空管(5),与左端所述对接管道(3)相对接的给料管(6);

其特征在于:还包括对接结构(7),所述给料管(6)通过对接结构(7)与所述对接管道(3)相对接固定,所述对接结构(7)包括对接卡头(71),所述对接管道(3)和给料管(6)相对接的端部均设置有对接卡头(71),扣接在所述对接卡头(71)上的第一套板(72)和第二套板(73),所述第一套板(72)和第二套板(73)上均设置有固定板(74),套在给料管(6)和对接管道(3)上的密封环(75),所述对接卡头(71)上设置有压口(76),卡在压口(76)之中的压块(77),所述第一套板(72)和第二套板(73)上均设置有压块(77)。

2.根据权利要求1所述一种反应料浆无塔真空冷却设备,其特征在于:所述对接管道(3)上的对接卡头(71)上设置有对接柱(701),对接柱(701)与给料管(6)上的对接卡头(71)相插接。

3.根据权利要求2所述一种反应料浆无塔真空冷却设备,其特征在于:所述对接柱(701)与压口(76)处于同一竖直线上。

4.根据权利要求1所述一种反应料浆无塔真空冷却设备,其特征在于:所述压口(76)一端的面上左右倾斜倒角处理,并且倒角面左右光滑抛光处理。

5.根据权利要求1所述一种反应料浆无塔真空冷却设备,其特征在于:所述第一套板(72)和第二套板(73)的端口处设置有压齿(751),第一套板(72)和第二套板(73)压在密封环(75)表面时,压齿(751)会压入密封环(75)之中。

6.根据权利要求1所述一种反应料浆无塔真空冷却设备,其特征在于:所述第二套板(73)上的固定板(74)表面设置有与第一套板(72)所述固定板(74)相对接的凸起块(741)。