1.一种金属件热处理放置架，包括固定底板，固定底板上设有四根呈二乘二矩形阵列分布的立柱，立柱的底部与所述固定底板相连，所述立柱呈垂直向上延伸，其特征在于：所述固定底板的上方设有至少一与之相平行的活动底板，活动底板上开设有供所述立柱穿入的安装孔，安装孔内嵌装有滑动连接在所述立柱上的导向筒，导向筒具有位于所述活动底板的上方的上筒体、位于活动底板下方的下筒体，宽距的相邻两所述上筒体间连接有支撑板，支撑板的顶部开设有若干槽口朝上的齿槽，齿槽沿所述支撑板的长度方向作延伸。

2.根据权利要求1所述的金属件热处理放置架，其特征在于：两所述支撑板上对应开设有至少一排呈水平间隔布置的第一侧插孔。

3.根据权利要求2所述的金属件热处理放置架，其特征在于：所述第一侧插孔的数量为两排。

4.根据权利要求1所述的金属件热处理放置架，其特征在于：两所述支撑板上对应转动连接有调节圆盘，调节圆盘上偏心设置有第二侧插孔。

5.根据权利要求1‑4任一项所述的金属件热处理放置架，其特征在于：所述固定底板和活动底板上分别开设有若干呈上下贯通的导流孔。

6.根据权利要求5所述的金属件热处理放置架，其特征在于：所述导流孔呈非回转柱状。

7.根据权利要求6所述的金属件热处理放置架，其特征在于：所述导流孔呈正六棱柱状。