1.一种真空镀膜炉内支架，其特征在于包括底部套环支架、圆盘底托、方杆、顶部套环支架、治具杆、插杆、螺栓，所述圆盘底托上设置底部套环支架，所述圆盘底托内设置方杆，所述方杆上方设置顶部套环支架，所述底部套环支架上设置治具杆，所述治具杆上设置插杆，所述底部套环支架通过螺栓与圆盘底托连接。

2.根据权利要求1所述一种真空镀膜炉内支架，其特征在于，所述圆盘底托的一侧通过螺栓与底部套环支架连接，所述圆盘底托中部有方形开口，所述底部套环支架设置有3*12个排方孔，所述顶部套环支架上设置有3*12个圆孔，所述方杆为实心杆，所述方杆的一端与镀膜机的中心轴固定连接，另一端穿过圆盘底托并通过螺栓与底部套环支架和顶部套环支架连接。

3.根据权利要求2所述一种真空镀膜炉内支架，其特征在于，所述治具杆呈方形，一端插入到底部套环支架的方孔内，另一端插入到顶部套环支架的圆孔内，所述治具杆上有11个带螺纹开口，所述治具杆有12根，每个所述治具杆上的开口上通过螺纹与插杆连接。