1.一种结构色薄膜，其特征在于，包括中空SiO2光子晶体模板和填充于中空SiO2光子晶体模板间隙中的高强度阻燃聚合物；其中，中空SiO2光子晶体模板经过硅烷偶联剂改性后再填充高强度阻燃聚合物；

所述高强度阻燃聚合物为聚间苯二甲酰间苯二胺、聚对苯二甲酰对苯二胺、聚苯并咪唑中的一种或几种的组合。

2.根据权利要求1所述的结构色薄膜，其特征在于，所述硅烷偶联剂为氨丙基三乙氧基硅烷、甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、甲基三甲氧基硅烷中的一种或几种的组合。

3.根据权利要求1‑2任一项所述的结构色薄膜的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：（1）中空SiO2光子晶体模板的制备；

（2）利用硅烷偶联剂对中空SiO2光子晶体模板进行改性；

（3）将高强度阻燃聚合物填充至改性后的中空SiO2光子晶体模板的间隙中，真空干燥得到结构色薄膜。

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述步骤（2）具体包括：将中空SiO2光子晶体模板置于硅烷偶联剂、乙醇与水的混合溶液中进行水热反应，得到改性后的中空SiO2光子晶体模板。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述混合溶液中的硅烷偶联剂、乙醇与水的体积比为（0.05～0.2）：20：（0.5～1.5）。

6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述水热反应的温度为75～85℃，时长为1～3h。

7.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述步骤（3）具体包括：将高强度阻燃聚合物加入有机溶剂和助溶剂中，于70～100℃下搅拌10～20h，使其完全溶解，得到质量分数为8～10%的透明状聚合物溶液，再对改性后的中空SiO2光子晶体模板的间隙进行填充；

其中，有机溶剂为N,N‑二甲基乙酰胺、二甲基亚砜、N‑甲基吡咯烷酮、N,N‑二甲基甲酰胺、六甲基磷酰胺中的一种或几种的组合；助溶剂为氯化锂、氯化钙、氢氧化钠、氢氧化钾中的一种或几种的组合。

8.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述有机溶剂和助溶剂的质量比为（20～30）：1。

9.根据权利要求7所述的制备方法，其特征在于，所述透明状聚合物溶液的用量根据中2

空SiO2光子晶体模板的表面积确定，为0.1～0.3mL/cm。